目录

专利摘要

本发明公开了一种分离式相控空化增强磨粒微射流抛光系统,包括多通道相控发射系统、六自由度移动平台、抛光工具、加工工件、工件安装平台、加工池、低粘性磨粒流、上位机控制系统、变频器、柱塞式水泵、磨粒流注入管路系统、安全管路系统、磨粒流输出管路系统,抛光工具包括固定本体、接线端盖、中部连接件、相控聚焦装置、角度调节件、微射流喷嘴、磨粒流注入口、喷嘴夹具。
本发明利用相控聚焦原理产生声波聚焦空化,并将微射流喷嘴和相控聚焦装置进行分离设计,根据需求对空化强度、射流强度进行单独调节;通过调节多通道相控发射系统的声波频率和功率,可对空泡尺度、空化强度进行主动控制,实现微射流抛光效率的增强。

专利状态

基础信息

专利号
CN201911425998.9
申请日
2019-12-31
公开日
2020-05-15
公开号
CN111152139A
主分类号
/B/B24/ 作业;运输
标准类别
磨削;抛光
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

葛江勤 陈洁 周晖 高佳文

申请人

中国计量大学

申请人地址

310000 浙江省杭州市下沙高教园区学源街258号

专利摘要

本发明公开了一种分离式相控空化增强磨粒微射流抛光系统,包括多通道相控发射系统、六自由度移动平台、抛光工具、加工工件、工件安装平台、加工池、低粘性磨粒流、上位机控制系统、变频器、柱塞式水泵、磨粒流注入管路系统、安全管路系统、磨粒流输出管路系统,抛光工具包括固定本体、接线端盖、中部连接件、相控聚焦装置、角度调节件、微射流喷嘴、磨粒流注入口、喷嘴夹具。
本发明利用相控聚焦原理产生声波聚焦空化,并将微射流喷嘴和相控聚焦装置进行分离设计,根据需求对空化强度、射流强度进行单独调节;通过调节多通道相控发射系统的声波频率和功率,可对空泡尺度、空化强度进行主动控制,实现微射流抛光效率的增强。

相似专利技术