本发明涉及一种抛光垫的制造方法，所述抛光垫具有嵌入的聚合物胶囊，可以在使用抛光组合物的CMP过程中用来对基片进行平面化。
该方法使用新颖的胶囊材料，减少了抛光垫由于胶囊漂浮、受热差异和胶囊膨胀而造成的不均匀性。
该方法还通过减少次品数量和减少废品提高制造方法的效率。

A·H·塞金

罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司

美国特拉华州

本发明涉及一种抛光垫的制造方法，所述抛光垫具有嵌入的聚合物胶囊，可以在使用抛光组合物的CMP过程中用来对基片进行平面化。
该方法使用新颖的胶囊材料，减少了抛光垫由于胶囊漂浮、受热差异和胶囊膨胀而造成的不均匀性。
该方法还通过减少次品数量和减少废品提高制造方法的效率。