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专利摘要

本发明提供了一种晶体切割装置及方法,涉及材料切割技术领域,晶体切割装置将工作台、切割机构、调晶机构和晶向检测机构集成一体化;调晶机构包括旋转机构和俯仰机构,晶向检测机构包括移动台、旋转装置、检测装置和电流表。
晶体切割方法包括:将待切割晶体固定在料盘上;通过调晶机构在其自身旋转方向上调整待切割晶体的空间姿态,使得电流表达到峰值;再将晶向检测机构的检测装置旋转90°,通过调晶机构在其俯仰方向上调整待切割晶体的空间姿态,使得电流表达到峰值;锁定调晶机构,对待切割晶体进行切割。
采用本申请的晶体切割装置及方法,切割出来的晶片晶向精度高,表面质量好,切割效率高。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910004083.4
申请日
2019-01-03
公开日
2019-04-09
公开号
CN109591211A
主分类号
/B/B28/ 作业;运输
标准类别
加工水泥、黏土或石料
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

吴学宾 周立庆 郝禄 侯晓敏 吴卿

申请人

北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)

申请人地址

100176 北京市经济技术开发区泰河三街1号

专利摘要

本发明提供了一种晶体切割装置及方法,涉及材料切割技术领域,晶体切割装置将工作台、切割机构、调晶机构和晶向检测机构集成一体化;调晶机构包括旋转机构和俯仰机构,晶向检测机构包括移动台、旋转装置、检测装置和电流表。
晶体切割方法包括:将待切割晶体固定在料盘上;通过调晶机构在其自身旋转方向上调整待切割晶体的空间姿态,使得电流表达到峰值;再将晶向检测机构的检测装置旋转90°,通过调晶机构在其俯仰方向上调整待切割晶体的空间姿态,使得电流表达到峰值;锁定调晶机构,对待切割晶体进行切割。
采用本申请的晶体切割装置及方法,切割出来的晶片晶向精度高,表面质量好,切割效率高。

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