目录

专利摘要

本发明属于气体传感器相关技术领域,并一种气体传感器芯片一体化微加工装置。
该微加工装置集成激光刻蚀、紫外曝光和微喷成膜功能于一体,包括光学平台、激光器、吸附平台、曝光灯、微喷机构和滑移台,其中,光学平台是其它部件的载体;吸附平台用于放置待成形气体传感器的基片;滑移台具备X、Y和Z方向的自由度,用于吸附掩模版并将掩模版放置在吸附平台上的基片上;曝光灯用于对放置有掩模版的基片进行曝光;激光器用于对基片按照预设图案进行激光刻蚀;微喷机构用于在待成形气体传感器上成型气敏膜。
通过本发明,解决了传统方式制造气体传感器需要一系列复杂设备的问题,减少了因为人为操作带来的误差,改善气敏传感器的一致性。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010354221.4
申请日
2020-04-29
公开日
2021-07-27
公开号
CN111505210B
主分类号
/B/B81/ 作业;运输
标准类别
微观结构技术
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

张顺平 杨恒

申请人

华中科技大学

申请人地址

430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

专利摘要

本发明属于气体传感器相关技术领域,并一种气体传感器芯片一体化微加工装置。
该微加工装置集成激光刻蚀、紫外曝光和微喷成膜功能于一体,包括光学平台、激光器、吸附平台、曝光灯、微喷机构和滑移台,其中,光学平台是其它部件的载体;吸附平台用于放置待成形气体传感器的基片;滑移台具备X、Y和Z方向的自由度,用于吸附掩模版并将掩模版放置在吸附平台上的基片上;曝光灯用于对放置有掩模版的基片进行曝光;激光器用于对基片按照预设图案进行激光刻蚀;微喷机构用于在待成形气体传感器上成型气敏膜。
通过本发明,解决了传统方式制造气体传感器需要一系列复杂设备的问题,减少了因为人为操作带来的误差,改善气敏传感器的一致性。

相似专利技术