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专利摘要

本发明公开了一种晶片键合过程中对准检测方法,包括:在上晶片非键合面制作上晶片辅助对准标记和上晶片主对准标记;在下晶片键合面制作下晶片辅助对准标记和下晶片主对准标记;利用主对准标记进行上下晶片的对准后上下晶片错开,露出下晶片辅助对准标记,测量露出的下晶片辅助对准标记与上晶片辅助对准标记的横纵向的位置偏差,计算出对准标记偏差,合理控制对准偏差范围。
本发明可以加工出对准精度高的敏感芯片,实现非透明晶片键合前对准的定量测试,本发明能确保芯片的质量和成品率。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010880769.2
申请日
2020-08-27
公开日
2021-01-01
公开号
CN112158797A
主分类号
/B/B81/ 作业;运输
标准类别
微观结构技术
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

刘福民 杨静 李兆涵 徐宇新 刘宇 张乐民 刘国文 马骁 崔尉 梁德春 张树伟 吴浩越

申请人

北京航天控制仪器研究所

申请人地址

100854 北京市海淀区北京142信箱403分箱

专利摘要

本发明公开了一种晶片键合过程中对准检测方法,包括:在上晶片非键合面制作上晶片辅助对准标记和上晶片主对准标记;在下晶片键合面制作下晶片辅助对准标记和下晶片主对准标记;利用主对准标记进行上下晶片的对准后上下晶片错开,露出下晶片辅助对准标记,测量露出的下晶片辅助对准标记与上晶片辅助对准标记的横纵向的位置偏差,计算出对准标记偏差,合理控制对准偏差范围。
本发明可以加工出对准精度高的敏感芯片,实现非透明晶片键合前对准的定量测试,本发明能确保芯片的质量和成品率。

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