本发明公开了一种大幅面阵列飞秒激光微流控芯片直印设备及其方法。
利用调控输出的激光光束状态多参数可调的大幅面阵列飞秒激光实现大幅面激光干涉，结合对大幅面阵列飞秒激光干涉状态、干涉组合及曝光方式的调控，经多次曝光叠加输出微流控芯片待加工图案，实现对微流控芯片的直印加工。
本发明能够实现微流控芯片的快速加工，提高了微流控芯片的加工效率，缩短了微流控芯片加工周期，在加工具有复杂三维结构的微流控芯片方面具有显著的优势，具有广泛的应用前景。

曾和平 杨川 胡梦云 袁帅

华东师范大学重庆研究院 华东师范大学

401123 重庆市渝北区卉竹路2号1号楼1-2层1、2号房

本发明公开了一种大幅面阵列飞秒激光微流控芯片直印设备及其方法。
利用调控输出的激光光束状态多参数可调的大幅面阵列飞秒激光实现大幅面激光干涉，结合对大幅面阵列飞秒激光干涉状态、干涉组合及曝光方式的调控，经多次曝光叠加输出微流控芯片待加工图案，实现对微流控芯片的直印加工。
本发明能够实现微流控芯片的快速加工，提高了微流控芯片的加工效率，缩短了微流控芯片加工周期，在加工具有复杂三维结构的微流控芯片方面具有显著的优势，具有广泛的应用前景。