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专利摘要

一种面内双轴加速度传感器芯片及其制备方法,芯片采用SOI硅片制成,包括芯片外框架,芯片外框架每一侧与两个质量块之间通过支撑梁连接,支撑梁为“T”型结构,其一端固定于芯片外框架,另外两端分别与延伸梁和质量块连接;敏感压阻微梁设置于延伸梁末端与支撑梁固定端之间的间隙处,对称分布在支撑梁固定端两侧;所有质量块通过铰链梁连接成正方形;每个敏感压阻微梁上形成有压敏电阻,压敏电阻通过金属引线和焊盘相连并构成惠斯通全桥电路;本发明传感器芯片将支撑元件与敏感元件进行了分离,降低了面内双轴加速度检测中交叉灵敏度的干扰,提高了压阻式加速度传感器的动态性能和适用范围,制作方法简单,可靠性高。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910644341.5
申请日
2019-07-17
公开日
2021-01-15
公开号
CN110389237B
主分类号
/B/B81/ 作业;运输
标准类别
微观结构技术
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

赵立波 贾琛 罗国希 于明智 杨萍 李支康 王久洪 蒋庄德

申请人

西安交通大学

申请人地址

710049 陕西省西安市碑林区咸宁西路28号

专利摘要

一种面内双轴加速度传感器芯片及其制备方法,芯片采用SOI硅片制成,包括芯片外框架,芯片外框架每一侧与两个质量块之间通过支撑梁连接,支撑梁为“T”型结构,其一端固定于芯片外框架,另外两端分别与延伸梁和质量块连接;敏感压阻微梁设置于延伸梁末端与支撑梁固定端之间的间隙处,对称分布在支撑梁固定端两侧;所有质量块通过铰链梁连接成正方形;每个敏感压阻微梁上形成有压敏电阻,压敏电阻通过金属引线和焊盘相连并构成惠斯通全桥电路;本发明传感器芯片将支撑元件与敏感元件进行了分离,降低了面内双轴加速度检测中交叉灵敏度的干扰,提高了压阻式加速度传感器的动态性能和适用范围,制作方法简单,可靠性高。

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