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专利摘要

本发明提供一种即便使用薄玻璃制造效率亦优异的光学积层体的制造方法。
光学积层体的制造方法包括:薄玻璃制造步骤,其制造厚度为100μm以下的薄玻璃;积层步骤,其在该薄玻璃的单面或两面积层光学膜;该薄玻璃制造步骤及该积层步骤在连续线进行,在该积层步骤中,在该光学膜涂敷粘接剂而形成涂敷层,经由该涂敷层使该薄玻璃与该光学膜贴合,然后,使该粘接剂固化,在光学膜与薄玻璃之间形成粘接剂层。

专利状态

基础信息

专利号
CN201680041564.7
申请日
2016-07-13
公开日
2020-11-24
公开号
CN107848252B
主分类号
/C/C03/ 化学;冶金
标准类别
玻璃;矿棉或渣棉
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

稻垣淳一 村重毅 细川和人

申请人

日东电工株式会社

申请人地址

日本大阪府

专利摘要

本发明提供一种即便使用薄玻璃制造效率亦优异的光学积层体的制造方法。
光学积层体的制造方法包括:薄玻璃制造步骤,其制造厚度为100μm以下的薄玻璃;积层步骤,其在该薄玻璃的单面或两面积层光学膜;该薄玻璃制造步骤及该积层步骤在连续线进行,在该积层步骤中,在该光学膜涂敷粘接剂而形成涂敷层,经由该涂敷层使该薄玻璃与该光学膜贴合,然后,使该粘接剂固化,在光学膜与薄玻璃之间形成粘接剂层。

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