目录

专利摘要

本文公开了抗反射膜,其包括:硬涂层;和低折射层,所述低折射层包含粘合剂树脂以及分散于粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒,其中所述低折射层包括包含全部实心无机纳米颗粒的至少70体积%的第一层和包含全部中空无机纳米颗粒的至少70体积%的第二层,并且在使用由一般方程式1表示的柯西模型对包括在所述低折射层中的所述第一层或/和所述第二层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度进行拟合时,其满足预定的条件。

专利状态

基础信息

专利号
CN201811195410.0
申请日
2017-03-09
公开日
2021-02-02
公开号
CN109298470B
主分类号
/C/C08/ 化学;冶金
标准类别
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

宋仁永 边真锡 金芙敬 张锡勋 张影来 吴诚浚

申请人

株式会社LG化学

申请人地址

韩国首尔

专利摘要

本文公开了抗反射膜,其包括:硬涂层;和低折射层,所述低折射层包含粘合剂树脂以及分散于粘合剂树脂中的中空无机纳米颗粒和实心无机纳米颗粒,其中所述低折射层包括包含全部实心无机纳米颗粒的至少70体积%的第一层和包含全部中空无机纳米颗粒的至少70体积%的第二层,并且在使用由一般方程式1表示的柯西模型对包括在所述低折射层中的所述第一层或/和所述第二层的通过椭圆偏光法测量的偏振椭圆度进行拟合时,其满足预定的条件。

相似专利技术