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专利摘要

本发明涉及一种利用金金热压键合技术制备高反射膜光学腔的方法。
该方法包括:在硼硅玻璃上表面溅射Ni/Au或Cr/Au薄膜作为硼硅玻璃刻蚀的掩膜并制作金属掩膜图形,刻蚀形成腐蚀坑;在硅片上依次溅射钛薄膜、铂薄膜和金薄膜;将硼硅玻璃上表面和硅片溅射金属薄膜的面贴合,利用热压键合技术进行键合;减薄,使硅片形成为硅薄膜。
本发明溅射的合金在热压键合过程中既可以在键合区域起到封闭光学腔的作用,又可以在未键合区域起到提高反射率的作用,有效又简洁的满足了高反射膜的需求。

专利状态

基础信息

专利号
CN201810762925.8
申请日
2018-07-12
公开日
2021-02-19
公开号
CN110715681B
主分类号
/B/B81/ 作业;运输
标准类别
微观结构技术
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

徐现刚 王荣堃

申请人

山东大学

申请人地址

250199 山东省济南市历城区山大南路27号

专利摘要

本发明涉及一种利用金金热压键合技术制备高反射膜光学腔的方法。
该方法包括:在硼硅玻璃上表面溅射Ni/Au或Cr/Au薄膜作为硼硅玻璃刻蚀的掩膜并制作金属掩膜图形,刻蚀形成腐蚀坑;在硅片上依次溅射钛薄膜、铂薄膜和金薄膜;将硼硅玻璃上表面和硅片溅射金属薄膜的面贴合,利用热压键合技术进行键合;减薄,使硅片形成为硅薄膜。
本发明溅射的合金在热压键合过程中既可以在键合区域起到封闭光学腔的作用,又可以在未键合区域起到提高反射率的作用,有效又简洁的满足了高反射膜的需求。

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