本发明涉及一种钴基材抛光液及其应用,按重量百分比,包括如下组分:液相载体50‑80%;磨料0.1‑10%;氧化剂≤1%;铵盐化合物0.005‑20%;抑制剂0.1‑100mM。
本发明通过选择合适的氧化剂、铵盐化合物以及抑制剂并将他们合理组合,通过提高机械和化学作用来提高抛光速率,控制Co表面腐蚀情况以及改善表面质量,具有良好的应用前景。
刘卫丽 徐傲雪 宋志棠
中国科学院上海微系统与信息技术研究所 上海新安纳电子科技有限公司 浙江新创纳电子科技有限公司
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本发明涉及一种钴基材抛光液及其应用,按重量百分比,包括如下组分:液相载体50‑80%;磨料0.1‑10%;氧化剂≤1%;铵盐化合物0.005‑20%;抑制剂0.1‑100mM。
本发明通过选择合适的氧化剂、铵盐化合物以及抑制剂并将他们合理组合,通过提高机械和化学作用来提高抛光速率,控制Co表面腐蚀情况以及改善表面质量,具有良好的应用前景。