本发明涉及电子材料领域，具体关于一种硅片化学机械精抛抛光液的制备方法；本发明制备了一种用于硅片精抛的抛光液，该种抛光液所使用的磨料为一种改性有机改性纳米二氧化硅溶胶，该种改性有机改性纳米二氧化硅溶胶在二氧化硅离子表面接枝了水溶性大分子和3‑氨丙基三乙氧基硅烷，这些有机基团的加入能有效减少二氧化硅粒子在抛光过程中对抛光面的损伤，降低抛光面的粗糙度，提高硅片的抛光水平；本发明的改性方法工艺简单，反应易于控制，重复性好，制备的抛光液的抛光效果明显，适合用于硅片的精抛领域。

朱润栋 王瑶

泰兴瑞深新材科技有限公司

225411 江苏省泰州市泰兴市宜堡镇工业集聚区

本发明涉及电子材料领域，具体关于一种硅片化学机械精抛抛光液的制备方法；本发明制备了一种用于硅片精抛的抛光液，该种抛光液所使用的磨料为一种改性有机改性纳米二氧化硅溶胶，该种改性有机改性纳米二氧化硅溶胶在二氧化硅离子表面接枝了水溶性大分子和3‑氨丙基三乙氧基硅烷，这些有机基团的加入能有效减少二氧化硅粒子在抛光过程中对抛光面的损伤，降低抛光面的粗糙度，提高硅片的抛光水平；本发明的改性方法工艺简单，反应易于控制，重复性好，制备的抛光液的抛光效果明显，适合用于硅片的精抛领域。