本发明公开了一种氧化铈的制备方法及其在STI化学机械抛光中的应用，包括以下步骤：首先通过沉淀制备低晶态碳酸铈前驱体，进一步将低晶态碳酸铈前驱体转入高温水热条件下晶化得到晶态碳酸铈，进一步高温焙烧所制备碱式碳酸铈得到氧化铈粉体。
在机械力作用下，该方法制得的氧化铈颗粒易分散于液相中。
以该分散氧化铈为磨料的CMP抛光液，在STI抛光应用中显示出优良的平坦化抛光效率。

尹先升 贾长征

安集微电子科技（上海）有限公司

201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区（南区）T6-9幢底层

本发明公开了一种氧化铈的制备方法及其在STI化学机械抛光中的应用，包括以下步骤：首先通过沉淀制备低晶态碳酸铈前驱体，进一步将低晶态碳酸铈前驱体转入高温水热条件下晶化得到晶态碳酸铈，进一步高温焙烧所制备碱式碳酸铈得到氧化铈粉体。
在机械力作用下，该方法制得的氧化铈颗粒易分散于液相中。
以该分散氧化铈为磨料的CMP抛光液，在STI抛光应用中显示出优良的平坦化抛光效率。