本发明公开了一种超精密抛光磨料生产方法，经过固态重结晶的手段制备而成，具体步骤如下：步骤1：首先将γ氧化铝、分散剂、PH调节剂加入水溶液搅拌均匀，控制PH值在8~12之间，然后加入砂磨机中研磨至粒径D50为50nm‑300nm，标记为A液体；步骤2：把适量的固态重结晶剂溶解在纯水溶液中，配成水溶液，标记为B液体；步骤3：把A液体经过离心分离后所得到的滤渣加入B液体中；在反应釜中搅拌，放入烘箱中烘干，然后经过高温煅烧。
本发明具有抛光去除率高、抛光稳定性好、良率高、循环次数长等特点，经其抛光后的大尺寸单晶硅片表面超光滑，无划痕、凹坑、桔皮等表面缺陷，表面粗糙度小于0.3nm，呈现出超精细表面。

鲁新辉

长沙县新光特种陶瓷有限公司

410135 湖南省长沙市长沙县江背镇朱桥社区

本发明公开了一种超精密抛光磨料生产方法，经过固态重结晶的手段制备而成，具体步骤如下：步骤1：首先将γ氧化铝、分散剂、PH调节剂加入水溶液搅拌均匀，控制PH值在8~12之间，然后加入砂磨机中研磨至粒径D50为50nm‑300nm，标记为A液体；步骤2：把适量的固态重结晶剂溶解在纯水溶液中，配成水溶液，标记为B液体；步骤3：把A液体经过离心分离后所得到的滤渣加入B液体中；在反应釜中搅拌，放入烘箱中烘干，然后经过高温煅烧。
本发明具有抛光去除率高、抛光稳定性好、良率高、循环次数长等特点，经其抛光后的大尺寸单晶硅片表面超光滑，无划痕、凹坑、桔皮等表面缺陷，表面粗糙度小于0.3nm，呈现出超精细表面。