本发明属于抛光技术领域，具体涉及一种添加剂及其应用、使用方法。
本发明公开了一种晶体硅抛光液添加剂，包括：羟基乙叉二磷酸、苯并三氮唑、聚丙烯酰胺，消泡剂、去离子水。
本发明以酸抛光工艺为基础，在传统酸抛光液中加入本发明的添加剂，可显著提高表面反射率，抛光液中不再需要添加硫酸，氢氟酸和硝酸的用量也显著减少，可以大幅降低成本。

傅建奇 姚雁林 杨建达 邵加波 傅魁

上海至绒新能源科技有限公司

201499 上海市奉贤区沪杭公路1588号2幢-1713

本发明属于抛光技术领域，具体涉及一种添加剂及其应用、使用方法。
本发明公开了一种晶体硅抛光液添加剂，包括：羟基乙叉二磷酸、苯并三氮唑、聚丙烯酰胺，消泡剂、去离子水。
本发明以酸抛光工艺为基础，在传统酸抛光液中加入本发明的添加剂，可显著提高表面反射率，抛光液中不再需要添加硫酸，氢氟酸和硝酸的用量也显著减少，可以大幅降低成本。