用于抛光介电衬底的具有稳定的磨料颗粒的化学机械抛光组合物 下载此专利PDF版本

CN202010078522.9 化学 机械 颗粒 抛光 衬底

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专利摘要

公开了一种用于抛光介电衬底的化学机械抛光组合物，其包含用聚烷氧基化的有机硅烷稳定的胶体二氧化硅磨料颗粒。

专利状态

  1. 申请日
  2. 公开日
  3. 审查中-实审

基础信息

专利号
CN202010078522.9
申请日
2020-02-03
公开日
2020-07-31
公开号
CN111471400A
主分类号
/C/C09/ 化学；冶金
标准类别
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

郭毅

申请人

罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司

申请人地址

美国特拉华州

专利摘要

公开了一种用于抛光介电衬底的化学机械抛光组合物，其包含用聚烷氧基化的有机硅烷稳定的胶体二氧化硅磨料颗粒。

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