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专利摘要

本发明公开了一种新型光学玻璃材料H‑FK61的抛光工艺,其特征在于,包括以下步骤:清洗光学玻璃上的杂质,将光学玻璃放置在蒸馏水中通过浸泡5~10min,浸泡过后,通过软毛刷刷洗2~5min,在刷洗后,采用超声波处理4~8min,将光学玻璃从蒸馏水中取出,在将取出的光学玻璃表面通过高温蒸汽杀菌10~20min,最后在通过烘干机烘干20~30min。
该一种新型光学玻璃材料H‑FK61的抛光工艺,通过物理粗抛光处理、物理半粗抛光处理和物理精抛光处理,在通过将物理抛光进一步细分的情况下,能够更有效的适应各种情况下光学玻璃的抛光,且使得物理抛光能够达到更进一步分精度,使得经过物理抛光后的光学玻璃表面光滑度和透明度达到光学玻璃的使用要求。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010257683.4
申请日
2020-04-03
公开日
2020-08-14
公开号
CN111531432A
主分类号
/C/C09/ 化学;冶金
标准类别
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
发明公开

发明人

张继广 张芸 尹园圆 程珂

申请人

上海光继光电科技有限公司

申请人地址

201500 上海市金山区张堰镇松金公路2758号1幢A1757室

专利摘要

本发明公开了一种新型光学玻璃材料H‑FK61的抛光工艺,其特征在于,包括以下步骤:清洗光学玻璃上的杂质,将光学玻璃放置在蒸馏水中通过浸泡5~10min,浸泡过后,通过软毛刷刷洗2~5min,在刷洗后,采用超声波处理4~8min,将光学玻璃从蒸馏水中取出,在将取出的光学玻璃表面通过高温蒸汽杀菌10~20min,最后在通过烘干机烘干20~30min。
该一种新型光学玻璃材料H‑FK61的抛光工艺,通过物理粗抛光处理、物理半粗抛光处理和物理精抛光处理,在通过将物理抛光进一步细分的情况下,能够更有效的适应各种情况下光学玻璃的抛光,且使得物理抛光能够达到更进一步分精度,使得经过物理抛光后的光学玻璃表面光滑度和透明度达到光学玻璃的使用要求。

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