本发明提供了一种碱性化学机械抛光液，其含有二氧化硅研磨颗粒、唑类化合物、络合剂、阴离子表面活性剂、钾盐和氧化剂。
本发明的抛光液中加入了阴离子表面活性剂，改善了在高离子强度、高固含量下的胶体稳定性；静置较长时间后，抛光液的抛光速率不受影响，从而使得本发明的化学机械抛光液可以多倍浓缩，降低了抛光液的生产、存储及运输成本。

卞鹏程 荆建芬 姚颖 李恒 黄悦锐 马健

安集微电子(上海)有限公司

201203 上海市浦东新区张江高科技园区碧波路889号1幢E座第1至第2层，以及第3层的部分区域

本发明提供了一种碱性化学机械抛光液，其含有二氧化硅研磨颗粒、唑类化合物、络合剂、阴离子表面活性剂、钾盐和氧化剂。
本发明的抛光液中加入了阴离子表面活性剂，改善了在高离子强度、高固含量下的胶体稳定性；静置较长时间后，抛光液的抛光速率不受影响，从而使得本发明的化学机械抛光液可以多倍浓缩，降低了抛光液的生产、存储及运输成本。