本发明提供了一种单晶金刚石晶片的双面化学机械抛光方法，属于超精密加工技术领域。
该方法包括粗抛和精抛两个阶段，其中粗抛采用聚氨酯抛光垫，精抛采用绒布抛光垫；粗抛和精抛时滴加不同配方的抛光液并设置不同的抛光参数，其中，粗、精抛时抛光液的主要成分包括碳化硼、氧化铈等磨粒，熊果酸、碘酒、煤油等化学试剂。
本发明提供的双面抛光方法可实现单晶金刚石晶片材料的快速去除，并保证抛光表面的超低损伤及超光滑，研制的抛光液绿色环保。

张振宇 廖龙兴 谢文祥 刘杰

大连理工大学

116024 辽宁省大连市甘井子区凌工路2号

本发明提供了一种单晶金刚石晶片的双面化学机械抛光方法，属于超精密加工技术领域。
该方法包括粗抛和精抛两个阶段，其中粗抛采用聚氨酯抛光垫，精抛采用绒布抛光垫；粗抛和精抛时滴加不同配方的抛光液并设置不同的抛光参数，其中，粗、精抛时抛光液的主要成分包括碳化硼、氧化铈等磨粒，熊果酸、碘酒、煤油等化学试剂。
本发明提供的双面抛光方法可实现单晶金刚石晶片材料的快速去除，并保证抛光表面的超低损伤及超光滑，研制的抛光液绿色环保。