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专利摘要

本发明涉及高温防护涂层领域,公开一种单晶高温合金和涂层界面的阻扩散层,该新型阻扩散层包括石墨烯薄膜和渗碳层;该阻扩散层的制备方法为:通过化学气相沉积方法,在单晶高温合金基体表面沉积石墨烯薄膜,同时在单晶高温合金基体内部生成渗碳层,之后再通过电弧离子镀技术在生长了石墨烯薄膜的单晶高温合金表面沉积MCrAlX涂层;通过石墨烯优异的防止元素扩散能力、以及渗碳层中碳与过饱和的难熔金属元素形成的弥散碳化物,提高合金组织的稳定性,有效抑制元素互扩散、减少或消除二次反应区的形成和TCP有害相的析出、延长单晶高温合金/涂层体系的使用寿命。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910664930.X
申请日
2019-07-22
公开日
2021-07-16
公开号
CN110468384B
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

张儒静 何利民 牟仁德 许振华 李娜

申请人

中国航发北京航空材料研究院

申请人地址

100095 北京市海淀区北京市81号信箱科技发展部

专利摘要

本发明涉及高温防护涂层领域,公开一种单晶高温合金和涂层界面的阻扩散层,该新型阻扩散层包括石墨烯薄膜和渗碳层;该阻扩散层的制备方法为:通过化学气相沉积方法,在单晶高温合金基体表面沉积石墨烯薄膜,同时在单晶高温合金基体内部生成渗碳层,之后再通过电弧离子镀技术在生长了石墨烯薄膜的单晶高温合金表面沉积MCrAlX涂层;通过石墨烯优异的防止元素扩散能力、以及渗碳层中碳与过饱和的难熔金属元素形成的弥散碳化物,提高合金组织的稳定性,有效抑制元素互扩散、减少或消除二次反应区的形成和TCP有害相的析出、延长单晶高温合金/涂层体系的使用寿命。

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