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专利摘要

本发明涉及一种圆筒形陶瓷溅射靶及其制造装置和制造方法,所述圆筒形陶瓷溅射靶具备圆筒形基材、圆筒形陶瓷靶材、以及对所述圆筒形基材与圆筒形陶瓷靶材进行接合的焊锡,当将度盘式指示器抵接在所述圆筒形陶瓷靶材的外表面上的距离该圆筒形陶瓷靶材的两端为7mm的内侧的位置处,且以所述圆筒形基材的外周面上的距离所述圆筒形陶瓷靶材的两端分别为15mm的外侧的位置为支点而使所述圆筒形陶瓷溅射靶旋转一周并对所述度盘式指示器的读数进行测定时,所述度盘式指示器的读数的最大值与最小值之差在任意的测定部位处均为1.0mm以下。
本发明的圆筒形陶瓷溅射靶直至寿命结束为止均能够通过溅射而形成均匀的薄膜。
本发明的圆筒形陶瓷溅射靶的制造装置以及制造方法能够适当地制造出所述圆筒形陶瓷溅射靶。

专利状态

基础信息

专利号
CN201580020152.0
申请日
2015-08-20
公开日
2021-07-13
公开号
CN106232860B
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

池东求 秋庭里美 武内朋哉

申请人

三井金属矿业株式会社

申请人地址

日本东京

专利摘要

本发明涉及一种圆筒形陶瓷溅射靶及其制造装置和制造方法,所述圆筒形陶瓷溅射靶具备圆筒形基材、圆筒形陶瓷靶材、以及对所述圆筒形基材与圆筒形陶瓷靶材进行接合的焊锡,当将度盘式指示器抵接在所述圆筒形陶瓷靶材的外表面上的距离该圆筒形陶瓷靶材的两端为7mm的内侧的位置处,且以所述圆筒形基材的外周面上的距离所述圆筒形陶瓷靶材的两端分别为15mm的外侧的位置为支点而使所述圆筒形陶瓷溅射靶旋转一周并对所述度盘式指示器的读数进行测定时,所述度盘式指示器的读数的最大值与最小值之差在任意的测定部位处均为1.0mm以下。
本发明的圆筒形陶瓷溅射靶直至寿命结束为止均能够通过溅射而形成均匀的薄膜。
本发明的圆筒形陶瓷溅射靶的制造装置以及制造方法能够适当地制造出所述圆筒形陶瓷溅射靶。

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