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专利摘要

蒸镀用金属掩模基材(10)包括具备表面以及与上述表面相反侧的面即背面的含镍金属片(11),上述表面以及上述背面的至少一方为抗蚀剂层所位于的对象面,上述对象面的表面粗糙度Sa为0.019μm以下,并且,上述对象面的表面粗糙度Sz为0.308μm以下。

专利状态

基础信息

专利号
CN201811311762.8
申请日
2016-07-15
公开日
2019-03-08
公开号
CN109440060A
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

田村纯香 新纳干大 藤户大生 西辻清明 西刚广 三上菜穗子

申请人

凸版印刷株式会社

申请人地址

日本东京都

专利摘要

蒸镀用金属掩模基材(10)包括具备表面以及与上述表面相反侧的面即背面的含镍金属片(11),上述表面以及上述背面的至少一方为抗蚀剂层所位于的对象面,上述对象面的表面粗糙度Sa为0.019μm以下,并且,上述对象面的表面粗糙度Sz为0.308μm以下。

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