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专利摘要

本发明涉及一种精密蚀刻装置及其蚀刻喷淋架,其蚀刻喷淋架包括架体以及设置在架体上的喷嘴,所述喷嘴的喷淋区倾斜于架体的宽度或长度方向,所述喷嘴间隔纵横排布,相邻行或列的喷嘴错位设置,通过将喷嘴在水平方向上倾斜于横向或竖向,从而使得喷嘴喷淋区域也呈倾斜设置,进而在相邻喷嘴较近的情况下,可以良好的避免相邻喷嘴喷淋区域重叠的情况,使得线路板表面可以更加均匀的被蚀刻,而且这样在不重叠喷淋区域的情况下使得喷淋面有效增大,进而对于线路板上的液体起到推动作用,使得药液可以良好的流出减少残留存积在线路板上的情况,而且错位设置的喷嘴分布均匀度更佳,避免一个喷嘴堵塞后造成局部蚀刻特别差的现象。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010335935.0
申请日
2020-04-25
公开日
2020-07-24
公开号
CN111447751A
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

任春花 任春杰 白胜辉

申请人

深圳市科路迪机械设备有限公司

申请人地址

518000 广东省深圳市宝安区沙井街道西环路民主九九工业城A区C栋首层东面

专利摘要

本发明涉及一种精密蚀刻装置及其蚀刻喷淋架,其蚀刻喷淋架包括架体以及设置在架体上的喷嘴,所述喷嘴的喷淋区倾斜于架体的宽度或长度方向,所述喷嘴间隔纵横排布,相邻行或列的喷嘴错位设置,通过将喷嘴在水平方向上倾斜于横向或竖向,从而使得喷嘴喷淋区域也呈倾斜设置,进而在相邻喷嘴较近的情况下,可以良好的避免相邻喷嘴喷淋区域重叠的情况,使得线路板表面可以更加均匀的被蚀刻,而且这样在不重叠喷淋区域的情况下使得喷淋面有效增大,进而对于线路板上的液体起到推动作用,使得药液可以良好的流出减少残留存积在线路板上的情况,而且错位设置的喷嘴分布均匀度更佳,避免一个喷嘴堵塞后造成局部蚀刻特别差的现象。

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