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专利摘要

本发明涉及用于铜基金属膜的蚀刻液组合物和制造包含其的液晶显示装置用阵列基板的方法,更详细地,涉及包含路易斯酸的用于铜基金属膜的蚀刻液组合物和制造包含其的液晶显示装置用阵列基板的方法,该用于铜基金属膜蚀刻液组合物通过包含路易斯酸,能够降低用于铜基金属膜的蚀刻液组合物内的环状胺化合物的蚀刻抑制性能,从而使得随着蚀刻反应的进行而出现的蚀刻抑制剂性能变化最小化。

专利状态

基础信息

专利号
CN201710205825.0
申请日
2017-03-31
公开日
2017-12-08
公开号
CN107447215A
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

崔汉永 林大成 金相泰 朴英哲 李根洙 崔容硕

申请人

东友精细化工有限公司

申请人地址

韩国全罗北道

专利摘要

本发明涉及用于铜基金属膜的蚀刻液组合物和制造包含其的液晶显示装置用阵列基板的方法,更详细地,涉及包含路易斯酸的用于铜基金属膜的蚀刻液组合物和制造包含其的液晶显示装置用阵列基板的方法,该用于铜基金属膜蚀刻液组合物通过包含路易斯酸,能够降低用于铜基金属膜的蚀刻液组合物内的环状胺化合物的蚀刻抑制性能,从而使得随着蚀刻反应的进行而出现的蚀刻抑制剂性能变化最小化。

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