本发明公开了一种钨和氮化钛金属薄膜的蚀刻液及使用方法，主要成分包括磷酸、硝酸、醋酸、氟化合物、多元羧酸以及超纯水。
首先，利用硝酸将钨和氮化钛氧化；醋酸是为了抑制硝酸的电离，提高体系的氧化能力（硝酸）；磷酸作为缓冲溶液，起到提供氢离子的作用，在蚀刻过程中保持蚀刻速率的稳定；氟化合物和多元羧酸胺作为钛离子和钨离子的络合剂，平衡氮化钛和钨的蚀刻速率。
本发明的蚀刻液能同时蚀刻钨和氮化钛，并使钨和氮化钛的蚀刻速率差≤0.01 nm/min，基本保持一致。

李少平 张庭 贺兆波 王书萍 冯凯 尹印

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本发明公开了一种钨和氮化钛金属薄膜的蚀刻液及使用方法，主要成分包括磷酸、硝酸、醋酸、氟化合物、多元羧酸以及超纯水。
首先，利用硝酸将钨和氮化钛氧化；醋酸是为了抑制硝酸的电离，提高体系的氧化能力（硝酸）；磷酸作为缓冲溶液，起到提供氢离子的作用，在蚀刻过程中保持蚀刻速率的稳定；氟化合物和多元羧酸胺作为钛离子和钨离子的络合剂，平衡氮化钛和钨的蚀刻速率。
本发明的蚀刻液能同时蚀刻钨和氮化钛，并使钨和氮化钛的蚀刻速率差≤0.01 nm/min，基本保持一致。