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专利摘要

本文提供了一种差动泵送反应气体喷射器,具体提供了一种可用于从表面去除材料的工艺,该工艺为离子蚀刻。
在某些情况下,离子蚀刻涉及输送离子和反应气体两者到衬底。
所公开的实施方式允许以局部高压强的方式输送反应气体到衬底,而将在衬底的局部高压强输送区之外的部分保持低得多的压强。
低压强是通过下列方式来实现的:将高压强反应物输送限制在小区域,并当过量的反应物和副产物离开该小区域时以及在过量的反应物和副产物进入较大的衬底处理区之前抽吸走它们。
所公开的技术可以用于提高产量,同时使存在于衬底处理区中的离子和其他物质之间的有害的碰撞降低到最小程度。

专利状态

基础信息

专利号
CN201811027616.2
申请日
2015-08-12
公开日
2019-03-01
公开号
CN109402637A
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

伊凡·L·贝瑞三世 索斯藤·利尔 肯尼思·里斯·雷诺兹

申请人

朗姆研究公司

申请人地址

美国加利福尼亚州

专利摘要

本文提供了一种差动泵送反应气体喷射器,具体提供了一种可用于从表面去除材料的工艺,该工艺为离子蚀刻。
在某些情况下,离子蚀刻涉及输送离子和反应气体两者到衬底。
所公开的实施方式允许以局部高压强的方式输送反应气体到衬底,而将在衬底的局部高压强输送区之外的部分保持低得多的压强。
低压强是通过下列方式来实现的:将高压强反应物输送限制在小区域,并当过量的反应物和副产物离开该小区域时以及在过量的反应物和副产物进入较大的衬底处理区之前抽吸走它们。
所公开的技术可以用于提高产量,同时使存在于衬底处理区中的离子和其他物质之间的有害的碰撞降低到最小程度。

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