本申请公开了一种蚀刻设备，包括：蚀刻液供给源，包括一第一储液槽、一第二储液槽，及设置于第一储液槽与第二储液槽之间的离子浓度调节装置，第一储液槽容置有金属离子蚀刻液；喷淋装置，与所述蚀刻液供给源的第一储液槽连通，以对至少一目标喷淋金属离子蚀刻液；供液管路，用于流体连接喷淋装置与蚀刻液供给源的第一储液槽；其中，离子浓度调节装置产生电子以调节金属离子蚀刻液中金属离子的浓度。

许明

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本申请公开了一种蚀刻设备，包括：蚀刻液供给源，包括一第一储液槽、一第二储液槽，及设置于第一储液槽与第二储液槽之间的离子浓度调节装置，第一储液槽容置有金属离子蚀刻液；喷淋装置，与所述蚀刻液供给源的第一储液槽连通，以对至少一目标喷淋金属离子蚀刻液；供液管路，用于流体连接喷淋装置与蚀刻液供给源的第一储液槽；其中，离子浓度调节装置产生电子以调节金属离子蚀刻液中金属离子的浓度。