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专利摘要

本发明提供一种掺镓和掺氮的单晶硅棒的制备方法,所述制备方法包括:使单质镓与多晶硅在单晶炉内混合,通过直拉拉晶的方式形成掺镓直拉单晶硅;在直拉单晶硅形成的过程中,通入不同混合比例的氮气和气氩的混合气体,使氮元素进入掺镓直拉单晶硅中。
通过在单晶硅棒中掺杂镓来制备p型单晶,可以有效地降低p型单晶的光衰,提高电池片的转换效率。
此外,在单晶硅棒的拉制过程中使用氮气作为掺杂气体,使氮元素进入单晶硅棒中,提高单晶硅棒的机械强度,改善单晶硅棒内的杂质分布状况,有利于单晶硅片薄片化以及品质的提升。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010624020.1
申请日
2020-06-30
公开日
2021-07-16
公开号
CN111575785B
主分类号
/C/C30/ 化学;冶金
标准类别
晶体生长
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

何丽珠 杨俊 汪沛渊 刘礼猛 徐翔 白枭龙 尚伟泽

申请人

晶科绿能(上海)管理有限公司 晶科能源有限公司

申请人地址

200040 上海市静安区江场三路238号1516室

专利摘要

本发明提供一种掺镓和掺氮的单晶硅棒的制备方法,所述制备方法包括:使单质镓与多晶硅在单晶炉内混合,通过直拉拉晶的方式形成掺镓直拉单晶硅;在直拉单晶硅形成的过程中,通入不同混合比例的氮气和气氩的混合气体,使氮元素进入掺镓直拉单晶硅中。
通过在单晶硅棒中掺杂镓来制备p型单晶,可以有效地降低p型单晶的光衰,提高电池片的转换效率。
此外,在单晶硅棒的拉制过程中使用氮气作为掺杂气体,使氮元素进入单晶硅棒中,提高单晶硅棒的机械强度,改善单晶硅棒内的杂质分布状况,有利于单晶硅片薄片化以及品质的提升。

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