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专利摘要

本公开涉及一种获得均匀面光源的方法,既能够获得均匀的面光源,而且还不需要增加原始光源功率,减小了体积和成本。
一种获得均匀面光源的方法,包括:获取形成面光源的各个点光源在需要所述面光源照射的区域上的光强分布;基于所述光强分布,获取需要所述面光源照射的区域上的各个位置处的光强;基于需要所述面光源照射的区域上的各个位置处的光强,确定需要所述面光源照射的区域上的光强均匀性;基于所确定的光强均匀性,确定所述面光源的光强均匀性性能;对所述光强均匀性性能进行优化,得到各个所述点光源的优化后的功率和/或间距。

专利状态

基础信息

专利号
CN201911235757.8
申请日
2019-12-05
公开日
2021-01-01
公开号
CN110822302B
主分类号
/F/F21/ 机械工程;照明;加热;武器;爆破
标准类别
照明
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

不公告发明人

申请人

北京云端光科技术有限公司

申请人地址

100048 北京市海淀区西三环北路甲2号院5号楼1702室

专利摘要

本公开涉及一种获得均匀面光源的方法,既能够获得均匀的面光源,而且还不需要增加原始光源功率,减小了体积和成本。
一种获得均匀面光源的方法,包括:获取形成面光源的各个点光源在需要所述面光源照射的区域上的光强分布;基于所述光强分布,获取需要所述面光源照射的区域上的各个位置处的光强;基于需要所述面光源照射的区域上的各个位置处的光强,确定需要所述面光源照射的区域上的光强均匀性;基于所确定的光强均匀性,确定所述面光源的光强均匀性性能;对所述光强均匀性性能进行优化,得到各个所述点光源的优化后的功率和/或间距。

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