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专利摘要

本发明涉及一种防溢出硅片清洗设备,包括:清洗池和两平行设置的端板,分别与两端板固定连接的三个齿杆和三个支撑杆,硅片能够插到相邻两夹紧齿之间,两端板之间还转动连接有一安装板,安装板能够盖合在各硅片上,清洗池的两侧短边内侧壁分别具有一溢流腔体,清洗池的内侧壁开设有上溢流孔,清洗池的外侧壁底部开设有下溢流孔,下溢流孔与溢流腔体连通,清洗池内清洗液通过上溢流孔进入溢流腔体后,能够从下溢流孔排出;以及上溢流孔的位置处设置有清洗部,清洗部与上溢流孔的内侧壁贴合,且清洗部与安装板联动,其中安装板盖合时,安装板能够联动清洗部清洗上溢流孔,通过在下溢流孔处收集清洗液,避免清洗液溢出的情况,以保证使用安全性。

专利状态

基础信息

专利号
CN202110072088.8
申请日
2021-01-20
公开日
2021-05-18
公开号
CN112387646B
主分类号
/F/F26/ 机械工程;照明;加热;武器;爆破
标准类别
干燥
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

钱诚 田晓东 冯春

申请人

常州江苏大学工程技术研究院 江苏亚电科技有限公司

申请人地址

213000 江苏省常州市常武中路801号天润科技大厦B座8楼

专利摘要

本发明涉及一种防溢出硅片清洗设备,包括:清洗池和两平行设置的端板,分别与两端板固定连接的三个齿杆和三个支撑杆,硅片能够插到相邻两夹紧齿之间,两端板之间还转动连接有一安装板,安装板能够盖合在各硅片上,清洗池的两侧短边内侧壁分别具有一溢流腔体,清洗池的内侧壁开设有上溢流孔,清洗池的外侧壁底部开设有下溢流孔,下溢流孔与溢流腔体连通,清洗池内清洗液通过上溢流孔进入溢流腔体后,能够从下溢流孔排出;以及上溢流孔的位置处设置有清洗部,清洗部与上溢流孔的内侧壁贴合,且清洗部与安装板联动,其中安装板盖合时,安装板能够联动清洗部清洗上溢流孔,通过在下溢流孔处收集清洗液,避免清洗液溢出的情况,以保证使用安全性。

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