1.本技术属于显示设备技术领域，尤其涉及一种掩膜板组件。


背景技术：

2.随着显示技术的发展，现在的手机屏有向中大尺寸发展的趋势，在手机屏用显示面板的制造过程中，需要对待蒸镀玻璃基板重新排版以适应新的中大尺寸要求，同时需要对用于向待蒸镀玻璃基板进行蒸镀的掩膜板的排版进行同样的排版更改，但是更改排版后，出现了蒸镀机中的磁条对掩膜板吸附不良的现象，从而影响蒸镀质量。


技术实现要素：

3.本技术实施例提供了一种掩膜板组件，该掩膜板组件中的第一掩膜板和第二掩膜板均不翻转，从而提高蒸镀的位置准确性、提升蒸镀质量。
4.本技术实施例提供了一种掩膜板组件，包括：
5.掩膜框架，所述掩膜框架的一侧表面形成承载面，所述掩膜框架包括开口位于所述承载面的凹槽；
6.第一掩膜板，包括多个第一开孔以及围绕各所述第一开孔分布的第一遮挡区，所述第一掩膜板周向形成有多个伸出端，所述伸出端卡位于所述凹槽，所述承载面通过相邻两个所述伸出端之间露出；
7.第二掩膜板，包括多个与第一开孔一一对应的第二开孔、围绕各所述第二开孔分布的第二遮挡区以及位于所述第二掩膜板边缘的边缘区，所述第二掩膜板通过所述边缘区与所述承载面接触固定。
8.根据本技术提供的掩膜板组件，所述第一掩膜板的磁性小于所述第二掩膜板的磁性。
9.根据本技术提供的掩膜板组件，所述第一掩膜板的所述第一遮挡区形成有用于将所述第一掩膜板和所述第二掩膜板之间液体导出的出液组件。
10.根据本技术提供的掩膜板组件，所述出液组件包括贯穿所述第一遮挡区厚度方向的多个出液孔，多个所述出液孔在所述第一蒸镀开口之间均匀排布；
11.优选地，沿垂直于所述第一掩膜板的厚度方向，所述出液孔的截面形状为矩形、多边形或圆形。
12.根据本技术提供的掩膜板组件，所述第一掩膜板包括第一蒸镀面和第一玻璃面，所述第一开孔包括位于所述第一蒸镀面的第一开口以及位于所述第一玻璃面的第二开口，所述第一开孔由所述第一蒸镀面向所述第一玻璃面逐渐收拢；
13.所述第二掩膜板包括第二蒸镀面和第二玻璃面，所述第二开孔包括位于所述第二蒸镀面的第三开口以及位于所述第二玻璃面的第四开口，所述第二开孔由所述第二蒸镀面向所述第二玻璃面逐渐收拢。
14.根据本技术提供的掩膜板组件，所述第一开口在所述第二玻璃面上的正投影覆盖
所述第四开口，且位于所述第二玻璃面的所述第二遮挡区中，位于所述第一开口在所述第二玻璃面上的正投影与所述第四开口之间的部分的宽度大于20um；
15.所述第二开口在所述第二蒸镀面上的正投影与所述第三开口重合。
16.根据本技术提供的掩膜板组件，所述伸出端远离所述第一掩膜板中心的一端与所述凹槽的底壁背离所述开口的一侧边沿齐平或凸出。
17.根据本技术提供的掩膜板组件，所述第一开孔沿行列方向排布，沿所述列方向，所述伸出端位于相邻第一开孔行之间；或者，沿所述行方向，所述伸出端位于相邻第一开孔列之间；
18.优选地，所述掩膜框架沿垂直于自身厚度方向的截面为矩形框，位于相邻所述第一开孔行之间的各个所述伸出端沿所述行方向的长度大于或等于1mm，位于相邻所述第一开孔行之间的各个所述伸出端中，靠近所述掩膜框架四角的伸出端沿所述列方向的宽度、大于远离所述掩膜框架四角的伸出端沿所述列方向的宽度；
19.位于相邻所述第一开孔列之间的各个所述伸出端沿所述列方向的长度大于或等于1mm，位于相邻所述第一开孔列之间的各个所述伸出端中，靠近所述掩膜框架四角的伸出端沿所述行方向的宽度、大于远离所述掩膜框架四角的伸出端沿所述行方向的宽度。
20.根据本技术提供的掩膜板组件，所述伸出端沿垂直于所述伸出端延伸方向的截面的形状为矩形或圆形。
21.根据本技术提供的掩膜板组件，所述第一掩膜板的厚度为40um-150um，所述第二掩膜板的厚度为40um-150um。
22.与现有技术相比，本技术提供的掩膜板组件包括掩膜框架、固定于掩膜框架的第一掩膜板和第二掩膜板，第一掩膜板可对第二掩膜板起到支撑效果，且可抵住第二掩膜板的第二遮挡区中向第一掩膜板翻转的部分、抑制第二掩膜板中各部分围绕磁条翻转的翻转趋势，使得该掩膜板组件中的第一掩膜板和第二掩膜板均不翻转，从而提高蒸镀的位置准确性、提升蒸镀质量。
附图说明
23.为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对本技术实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面所描述的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
24.图1是本技术实施例提供的一种掩膜板组件的结构示意图；
25.图2是本技术实施例提供的掩膜板组件中的掩膜框架的结构示意图；
26.图3是本技术实施例提供的掩膜板组件中的第一掩膜板的结构示意图；
27.图4是本技术实施例提供的掩膜板组件中的第一掩膜板安装于掩膜框架后的结构示意图；
28.图5是本技术实施例提供的掩膜板组件中的第二掩膜板的结构示意图；
29.图6是本技术实施例提供的掩膜板组件中的第一掩膜板和第二掩膜板内部结构示意图。
30.附图中：
31.1-掩膜框架；11-承载面；12-凹槽；13-开口；2-第一掩膜板；20-第一开孔；21-第一遮挡区；22-伸出端；23-第一蒸镀面；231-第一开口；24-第一玻璃面；241-第二开口；25-出液孔；3-第二掩膜板；31-第二开孔；32-第二遮挡区；33-边缘区；34-第二蒸镀面；341-第三开口；35-第二玻璃面；351-第四开口。
具体实施方式
32.下面将详细描述本技术的各个方面的特征和示例性实施例。在下面的详细描述中，提出了许多具体细节，以便提供对本技术的全面理解。但是，对于本领域技术人员来说很明显的是，本技术可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本技术的示例来提供对本技术的更好的理解。
33.需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括
……”
限定的要素，并不排除在包括要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
34.现在的手机屏有向中大尺寸发展的趋势，市场需求的手机屏用显示面板大都在6英寸以上，而现在的产线中，还是使用适用于小尺寸显示面板的待蒸镀玻璃基板，此种玻璃基板在中大尺寸显示面板使用正常排版上会受到限制，导致玻璃利用率比较低，此时需要一种新的排版方式来提升玻璃基板的利用率，即由常规排版旋转90度，把常规排版称为竖向排版，此新的排版方式可称之为横向排版，采用横向排版后，用于向玻璃基板进行蒸镀的掩膜板与蒸镀机之间会产生吸附不良，发明人经研究发现，出现上述掩膜板吸附不良的原因在于：磁条中心位置的磁场最强、两磁条之间的部分磁场最弱，掩膜板采用磁性材料制成，从而掩膜板中位于开口周边的遮挡区中，与磁条的中心距离越近受到的吸引力越大、与磁条的中心距离越远，受到的吸引力越小，受到吸引力大的位置较受到吸引力小的位置更容易向靠近磁条的方向移动，从而使得遮挡区的各部分容易围绕磁条的延伸方向发生翻转，遮挡区中与磁条延伸方向平行的部分较遮挡区中与磁条垂直的部分受到磁条影响更大，在玻璃基板的排版方式发生变化后，蒸镀机的结构未变化，由于更改排版后，掩膜板中沿与蒸镀机中的磁条垂直方向上的实体区数量(即位于相邻开口之间的区域)增多、且掩膜板中每个开孔区沿与蒸镀机中的磁条垂直方向上的宽度减小，同时掩膜板中沿与蒸镀机中的磁条平行方向上的实体区(即位于相邻开口之间的区域)数量减少、且掩膜板中每个开孔区沿与蒸镀机中的磁条平行方向上的宽度增大，掩膜板更改排版后与之前的排版方式相比，遮挡区中与磁条延伸方向平行的部分数量增多，即受到磁力影响较大的部分数量增多，且沿掩膜条垂直的方向的宽度增加，从而导致蒸镀机中的磁条对掩膜板的吸附不良，掩膜板容易发生翻转，造成蒸镀效果变差，基于对上述问题的解析，发明人提供了一种掩膜板组件以解决掩膜板吸附不良的问题。
35.为了更好地理解本技术，下面结合图1至图6根据本技术实施例的掩膜板组件进行详细描述。
36.请参阅图1至图5，本技术实施例提供了一种掩膜板组件，如图1所示，包括掩膜框架1、第一掩膜板2和第二掩膜板3，如图2所示，掩膜框架1的一侧表面形成承载面11，掩膜框架1包括开口13位于承载面11的凹槽12；如图3和图4所示，第一掩膜板2包括多个第一开孔20以及围绕各第一开孔20分布的第一遮挡区21，第一掩膜板2周向形成有多个伸出端22，伸出端22卡位于掩膜框架1的凹槽12内，当第一掩膜板的伸出端22置于掩膜框架1的凹槽内时，承载面11通过相邻两个伸出端22之间露出；如图5所示，第二掩膜板3包括多个与第一开孔20一一对应的第二开孔31、围绕各第二开孔31分布的第二遮挡区32以及位于第二掩膜板3边缘的边缘区33，第二掩膜板3通过边缘区33与承载面11接触固定。
37.本技术提供的掩膜板组件包括掩膜框架1、固定于掩膜框架1的第一掩膜板2和第二掩膜板3，掩膜框架1具有开口13，掩膜框架1的一侧表面形成承载面11，承载面11上形成有凹槽12，凹槽12沿由开口中心向掩膜框架边缘方向贯穿所述掩膜框架的侧壁中靠近承载面的一端，掩膜框架1用于承载第一掩膜板2和第二掩膜板3，具体地，第一掩膜板2包括多个第一开孔20、第一遮挡区21以及多个伸出端22，第一遮挡区21围绕各第一开孔20分布，第一掩膜板2通过多个伸出端22与凹槽12卡位固定。第二掩膜板3包括多个第二开孔31、第二遮挡区32和边缘区33，各第二开孔31与各第一开孔20一一对应，以使蒸镀材料依次通过掩膜框架1的开口13、第一开孔20和第二开孔31后蒸镀到指定位置，第二遮挡区32围绕各个第二开孔31设置，第二掩膜板3的边缘与承载面11接触，以使第二掩膜板3固定于掩膜框架1、且位于第一掩膜板2背离掩膜框架1的一侧，即，第一掩膜板2和第二掩膜板3均与掩膜框架1固定，固定效果更为紧固，同时可避免由于第一掩膜板2和第二掩膜板3热膨胀系数不同而影响张网效果。本技术提供的掩膜板组件中包括第一掩膜板2和第二掩膜板3，第一掩膜板2可对第二掩膜板3起到支撑效果，且可抵住第二掩膜板3的第二遮挡区32中向第一掩膜板2翻转的部分、抑制第二掩膜板3中各部分围绕磁条翻转的翻转趋势，使得该掩膜板组件中的第一掩膜板2和第二掩膜板3均不翻转，从而提高蒸镀的位置准确性、提升蒸镀质量。应当注意的是，本技术提供的掩模板能够解决所有由于蒸镀机中的磁条与掩膜板的吸附不良，掩膜板容易发生翻转的问题，而不局限于显示面板的排版而导致的掩模板翻转。
38.在一种可行的实施方式中，第一掩膜板2的磁性小于第二掩膜板3的磁性，即第一掩膜板2受蒸镀机中磁条的磁力作用小于第二掩膜板3受蒸镀机中磁条的磁力作用，在磁条的磁力作用下，第一掩膜板2的翻转趋势大大小于第二掩膜板3的翻转趋势，从而第一掩膜板2可为第二掩膜板3提供良好的支撑，抑制第二掩膜板3的翻转趋势，从而提高蒸镀的位置准确性。
39.在上述实施方式中，第一掩膜板2和第二掩膜板3的材质为铁镍合金等，一方面保证了强度，另一方面材料简单易得、成本低，第一掩膜板2的磁性和第二掩膜板3的磁性与二者的材质相关，因此第一掩膜板2的材质选用磁性较小的材质，例如sus304或者sus430，第二掩膜板3的材质选用磁性较高的材质，例如invar36等等，本技术不做特别限定。
40.在一种可行的实施方式中，第一掩膜板2的第一遮挡区21形成有用于将第一掩膜板2和第二掩膜板3之间液体导出的出液组件。
41.在上述实施方式中，第一掩膜板2的第一遮挡区21形成有出液组件，以在对第一掩膜板2和第二掩膜板3进行清洗时，避免第一掩膜板2和第二掩膜板3之间的清洗药液的残留，从而满足蒸镀腔室的清洁度，提高蒸镀质量，从而提高产品性能。
42.在一种可行的实施方式中，如图3所示，出液组件包括贯穿第一遮挡区21厚度方向的多个出液孔25，一方面可将第一掩膜板2和第二掩膜板3之间的残留药液排出，另一方面可降低第一掩膜板2的强度，使其在张网时降低对掩膜框架的拉力，进一步提升掩膜框架整体强度；多个出液孔25在第一蒸镀开口13之间均匀排布，从而可以降低出液孔25对第一掩膜板2各部分应力均一性的影响，进而降低对第一掩膜板2张网效果的影响，防止第一掩膜板2出现褶皱等张网不良的现象，有助于保证蒸镀质量。
43.在一种可行的实施方式中，沿垂直于第一掩膜板2的厚度方向，出液孔25的截面形状为矩形，如图3所示；或者出液孔25的截面形状为多边形或圆形，本技术不做特别限定。
44.在一种可行的实施方式中，第一掩膜板2中的各个第一开孔20沿行列方向排布，多个出液孔25中至少部分沿行排布且相邻、另一部分沿列排布且相邻，多个出液孔25中部分位于相邻第一开孔行或相邻第一开孔列之间，另一部分沿第一掩膜板2的周向排布，以使多个出液孔25在第一掩膜板2内均匀分布。
45.在一种可行的实施方式中，如图1和图6所示，第一掩膜板2包括第一蒸镀面23和第一玻璃面24，第一开孔20包括位于第一蒸镀面23的第一开口231以及位于第一玻璃面24的第二开口241，第一开孔20由第一蒸镀面23向第一玻璃面24逐渐收拢。
46.在上述实施方式中，第一蒸镀面23为掩膜板组件在使用过程中、第一掩膜板2中朝向蒸镀源一侧的表面，第一玻璃面24为掩膜板组件在使用过程中、第一掩膜板2中朝向玻璃基板一侧的表面，第一开孔20由第一蒸镀面23向第一玻璃面24逐渐收拢，一方面使得第一开孔20的侧壁更为光滑，防止蒸镀材料残留，以节省蒸镀材料；另一方面使得位于第一蒸镀面23的第一开口231在第一玻璃面24的正投影覆盖位于第一玻璃面24的第二开口241，从而有利于蒸镀材料由较大的第一开口231进入第一开孔20内、后经第二开口241进入第二开孔31。
47.在一种可行的实施方式中，如图1和图6所示，第二掩膜板3包括第二蒸镀面34和第二玻璃面35，第二开孔31包括位于第二蒸镀面34的第三开口341以及位于第二玻璃面35的第四开口351，第二开孔31由第二蒸镀面34向第二玻璃面35逐渐收拢。
48.在上述实施方式中，第二蒸镀面34为掩膜板组件在使用过程中、第二掩膜板3中朝向蒸镀源一侧的表面，第二玻璃面35为掩膜板组件在使用过程中、第二掩膜板3中朝向玻璃基板一侧的表面，第二开孔31由第二蒸镀面34向第二玻璃面35逐渐收拢，一方面使得第二开孔31的侧壁更为光滑，防止蒸镀材料残留，以节省蒸镀材料；另一方面使得位于第二蒸镀面34的第三开口341在第二玻璃面35的正投影覆盖位于第二玻璃面35的第四开口351，从而有利于蒸镀材料由较大的第三开口341进入第二开孔31内、后经第四开口351蒸镀于指定位置。
49.在一种可行的实施方式中，如图6所示，第一开口231在第二掩膜板3中第二玻璃面35上的正投影覆盖第四开口351，且位于第二玻璃面35的第二遮挡区32中，位于第一开口231在第二玻璃面35上的正投影与第四开口351之间的部分的宽度大于20um，从而有助于蒸镀材料经由第一开孔20进入第二开孔31并蒸镀于指定位置。
50.在一种可行的实施方式中，第二开口241在第二蒸镀面34上的正投影与第三开口341重合，从而可以避免蒸镀材料沉着在第一开孔20和第二开孔31之间后不易清理，以及避免蒸镀材料的浪费。
51.在一种可行的实施方式中，伸出端22远离第一掩膜板2中心的一端与凹槽12的底壁背离开口13的一侧边沿齐平或凸出，以便于对第一掩膜板2进行张网，使得第一掩膜板2的张网效果更好，从而实现更好的蒸镀效果。
52.在一种可行的实施方式中，如图3所示，第一开孔20沿行列方向排布，沿列方向，伸出端22位于相邻第一开孔行之间；或者，沿行方向，伸出端22位于相邻第一开孔列之间。
53.在上述实施方式中，伸出端22与相邻开孔行之间的第一遮挡区21相对，或者，伸出端22与相邻开孔列之间的第一遮挡区21相对，从而有助于应力沿位于相邻开孔行以及相邻开孔列之间的第一遮挡区21传递，有助于提升张网的平坦度，从而提升蒸镀良率。
54.在一种可行的实施方式中，掩膜框架1沿垂直于自身厚度方向的截面为矩形框，位于相邻第一开孔行之间的各个伸出端22沿行方向的长度大于或等于1mm，位于相邻第一开孔行之间的各个伸出端22中，靠近掩膜框架1四角的伸出端22沿列方向的宽度、大于远离掩膜框架1四角的伸出端沿列方向的宽度。
55.位于相邻第一开孔列之间的各个伸出端22沿列方向的长度大于或等于1mm，位于相邻第一开孔列之间的各个伸出端22中，靠近掩膜框架1四角的伸出端22沿行方向的宽度、大于远离掩膜框架1四角的伸出端22沿行方向的宽度。
56.在上述实施方式中，将与掩膜框架1四角附近的伸出端的尺寸增加，从而可以提升第一掩膜板2在四个角处的张网精度，从而使得第一掩膜板2的张网效果更好。
57.在一种可行的实施方式中，伸出端22沿垂直于伸出端22延伸方向的截面的形状为矩形或圆形，当上述伸出端22截面形状为矩形时，掩膜框架1沿伸出端22延伸方向的截面的形状优选为矩形，以与伸出端22更好的配合，当上述伸出端22截面形状为矩形时，掩膜框架1沿伸出端22延伸方向的截面的形状优选为圆形，以与伸出端22更好的配合，上述伸出端22截面形状还可以为其他的形状，本技术不做特别限定。
58.在一种可行的实施方式中，第一掩膜板2的厚度为40um-150um，具体地，可以为40um、50um、65um、99um、101um、143um、150um等等，本技术不做特别限定，第二掩膜板3的厚度为40um-150um，具体地，可以为40um、60um、65um、98um、122um、133um、150um等等，本技术不做特别限定，第一掩膜板2的厚度与第二掩膜板3的厚度可以相同也可以不同，本技术不做特别限定。
59.以上，仅为本技术的具体实施方式，所属领域的技术人员可以清楚地了解到，为了描述的方便和简洁，上述描述的系统、模块和单元的具体工作过程，可以参考前述方法实施例中的对应过程，在此不再赘述。应理解，本技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本技术揭露的技术范围内，可轻易想到各种等效的修改或替换，这些修改或替换都应涵盖在本技术的保护范围之内。
60.还需要说明的是，本技术中提及的示例性实施例，基于一系列的步骤或者装置描述一些方法或系统。但是，本技术不局限于上述步骤的顺序，也就是说，可以按照实施例中提及的顺序执行步骤，也可以不同于实施例中的顺序，或者若干步骤同时执行。