1.本技术涉及显示技术领域，具体而言，本技术涉及一种显示基板和显示模组。


背景技术：

2.常规液晶显示器(lcd)为透射型，可直接测试亮度衡量显示亮暗。而反射式液晶显示器(rlcd)通过光调制层的环境光显示，不需要设置背光模组，采用反射率衡量画质显示亮暗。
3.但是，由于反射式液晶显示器的光路原理的局限，对光调制层反射出去的环境光利用率较低，从而影响了整个显示器的对比度和可视角度。


技术实现要素：

4.本技术针对现有方式的缺点，提出一种显示基板和显示模组，以解决现有的反射式液晶显示器对光调制层反射出去的环境光利用率较低的问题。
5.第一个方面，本技术实施例提供了一种显示基板，包括：第一基板和光调制层，所述第一基板包括阵列排布的多个子像素；所述光调制层位于所述第一基板一侧，所述光调制层包括阵列排布的多个光学单元，所述光学单元在所述第一基板上的正投影与所述子像素在所述第一基板上的正投影至少部分重叠；所述光学单元包括周期性排布的微结构，所述微结构用于使得射向所述微结构的环境光线发生衍射，衍射后形成的出射光线沿着以所述第一基板所在平面的法线方向为中心的第一预设夹角范围射出。
6.可选地，所述光学单元还包括基底，所述微结构在所述基底上呈周期性排布，所述微结构包括至少一个倾斜平面，所述倾斜平面与所述基底所在的平面呈第二预设夹角。
7.可选地，所述微结构的排布满足以下关系式：2dsinα＝λ；其中，d为所述微结构的排布周期；α为所述倾斜平面与所述第一基板所在平面的第二预设夹角，λ为射入到所述微结构的环境光线的波长。
8.可选地，所述第二预设夹角α为20度～45度。
9.可选地，所述微结构包括多个第一微结构；所述第一微结构包括一个倾斜平面；多个所述第一微结构沿着第二方向延伸并沿所述第一方向周期性排布，所述第一方向与所述子像素的列排布方向平行，所述第二方向与所述子像素的行排布方向平行。
10.可选地，所述微结构包括多个第二微结构；所述第二微结构包括一个倾斜平面；多个所述第二微结构在所述第二基板上呈阵列排布，沿着平行于第二方向相邻的所述第二微结构的所述倾斜平面的倾斜方向相反；所述第一方向与所述子像素的列排布方向平行，所述第二方向与所述子像素的行排布方向平行。
11.可选地，所述微结构包括多个第三微结构；所述第三微结构包括两个倾斜平面，两个所述倾斜平面分别与所述基底所在的平面的夹角相等；多个所述第三微结构在所述基底上呈阵列排布。
12.可选地，所述光学单元包括基底和多个第四微结构，多个所述第四微结构在所述
基底上呈阵列排布；所述第四微结构为凸台结构，所述第四微结构包括四个倾斜平面，四个所述倾斜平面与所述基底所在的平面的所述第一预设夹角均相等。
13.可选地，所述显示基板具有如下技术特征中的至少一种：
14.所述光学单元在所述第一基板上的正投影与所述子像素完全重合；
15.所述光学单元复用为像素电极。
16.可选地，所述光学单元的材料包括银。
17.第二个方面，本技术实施例还提供了一种显示模组，包括：相对布置的对置基板和第一个方面所述的显示基板；所述对置基板包括第二基板和位于第二基板靠近所述显示基板一侧的多个色阻单元；所述光学单元在所述第二基板上的正投影与所述色阻单元在所述第二基板上的正投影至少部分重叠。
18.可选地，多个所述色阻单元包括至少两种不同的颜色，不同颜色的所述色阻单元所对应的光学单元的所述微结构的排布周期不同。
19.可选地，所述显示模组还包括：偏光片，所述偏光片位于所述第二基板背离所述色阻单元的一侧；
20.所述偏光片包括层叠布置的四分之一波片、二分之一波片以及复合线偏光膜。
21.本技术实施例提供的技术方案带来的有益技术效果至少包括：
22.本技术实施例提供的显示基板，通过在第一基板的一侧设置与子像素相对应的光学单元，该光学单元包括周期性排布的微结构，利用周期性排布的微结构使得射向微结构的环境光线发生衍射，将镜面反射光能量转移到一级衍射方向，使得衍射后形成的出射光线沿着以第一基板所在平面的法线方向为中心的第一预设夹角范围射出，从而提升了经光调制层反射出去的环境光的利用率，增加了整个显示基板的对比度和可视角度。
23.本技术附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
24.本技术上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：
25.图1为本技术实施例提供的一种显示基板的结构示意图；
26.图2为本技术实施例提供的一种显示基板的光学单元的结构示意图；
27.图3为本技术实施例提供的一种显示基板的第一基板的子像素的排布方式示意图；
28.图4为本技术实施例提供的一种显示基板的反射率测试装置的光学示意图；
29.图5为本技术实施例提供的一种显示基板的光学单元在一个具体实施例中的结构示意图；
30.图6为本技术实施例提供的一种显示基板的光学单元在另一个具体实施例中的结构示意图；
31.图7为本技术实施例提供的图6中的微结构a的放大示意图；
32.图8为本技术实施例提供的一种显示基板的光学单元在又一个具体实施例中的结构示意图；
33.图9为本技术实施例提供的图8中的微结构b的放大示意图；
34.图10为本技术实施例提供的一种显示基板的光学单元再一个具体实施例中的结构示意图；
35.图11为本技术实施例提供的图10中的微结构c的放大示意图；
36.图12为本技术实施例提供的图10的俯视图；
37.图13为本技术实施例提供的图10的前视图；
38.图14为本技术实施例提供的一种显示模组的结构示意图；
39.图15为本技术实施例提供的一种显示模组中单个色阻单元与光学单元对应的光路示意图；
40.图16为本技术实施例提供的一种显示基板的制备方法的流程图；
41.图17为本技术实施例提供的一种显示基板的制备方法中步骤s200的具体工艺流程图。
42.其中：
43.100-显示基板；110-第一基板；111-子像素；
44.120-光调制层；121-光学单元；1211-微结构；1211a-倾斜平面；1212-基底；
45.1213-第一微结构；
46.1214-第二微结构；
47.1215-第三微结构；
48.1216-第四微结构；
49.200-对置基板；210-第二基板；220-色阻单元；230-偏光片。
50.300-液晶层。
具体实施方式
51.下面详细描述本技术，本技术的实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本技术的特征是不必要的，则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本技术，而不能解释为对本技术的限制。
52.本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本技术所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。
53.本技术领域技术人员可以理解，除非特意声明，这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是，本技术的说明书中使用的措辞“包括”是指存在所述特征、整数、步骤、操作、元件和/或组件，但是并不排除存在或添加一个或多个其他特征、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。这里使用的措辞“和/或”包括一个或更多个相关联的列出项的全部或任一单元和全部组合。
54.下面以具体地实施例对本技术的技术方案以及本技术的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。
55.如图1所示，本技术实施例提供了一种显示基板100，包括：第一基板110和光调制层120。
56.如图3所示，第一基板110包括基底层(图中未示出)和像素电路层(图中未示出)，像素电路层包括阵列排布的多个子像素111。其中，子像素111的列排布方向与图3中的第一方向平行，子像素111的行排布方向与图3中的第二方向平行。
57.具体地，光调制层120具体位于像素电路层的一侧，光调制层120包括阵列排布的多个光学单元121。光学单元121在第一基板110上的正投影与子像素111在第一基板110上的正投影至少部分重叠。
58.进一步地，结合图1和图2所示，为了增加对环境光线的利用率，光学单元121包括周期性排布的微结构1211，微结构1211用于使得射向微结构1211的环境光线(图2中示出了入射角为θ的环境光线)发生衍射，衍射后形成的出射光线沿着以第一基板110所在平面的法线方向为中心的第一预设夹角范围射出。
59.需要说明的是，本实施例中将第一基板110所在平面的法线方向定义为0
°
出射角，衍射后形成的出射光线沿着0
°
出射角为中心的第一预设夹角范围射出。此外，第一预设夹角可以根据微结构1211的具体结构进行设置，例如：衍射后形成的出射光线以0
°
出射角为中心的-10
°
～+10
°
范围内波动。
60.本实施例提供的显示基板100，通过在第一基板110的一侧设置与子像素111相对应的光学单元121，该光学单元121包括周期性排布的微结构1211，利用周期性排布的微结构1211使得射向微结构1211的环境光线发生衍射，将镜面反射光能量转移到一级衍射方向，使得衍射后形成的出射光线沿着以第一基板110所在平面的法线方向为中心的第一预设夹角范围射出，从而提升了对光调制层120反射出去的环境光的利用率，增加了整个显示模组的对比度和可视角度。
61.在一些实施例中，继续参阅图2，本实施例中的光学单元121还包括基底1212，微结构1211在基底1212上呈周期性排布。微结构1211包括至少一个倾斜平面1211a，倾斜平面1211a与基底1212所在的平面呈第二预设夹角α，倾斜平面1211a沿倾斜方向的长度尺寸为a。
62.可选地，微结构1211与基底1212可以采用一体化成型的工艺制备得到，例如：纳米压印工艺。
63.本实施例中，当射向倾斜平面1211a的环境光线发生衍射，衍射形成的出射光线沿着以第一基板110所在平面的法线方向为中心的第一预设夹角范围射出。此外，第二预设夹角可根据实际的显示需求进行设置，本实施例中不作具体限定。
64.在一些具体的实施例中，继续参阅图2，微结构1211在基底1212上的排布满足以下关系式：2dsinα＝λ。其中，d为微结构1211的排布周期；α为倾斜平面1211a与第一基板110所在平面的第二预设夹角，λ为射入到微结构1211的环境光线的波长。
65.需要说明的是，当微结构1211沿图2中的第一方向邻接排布设置时，微结构1211的排布周期等于微结构在基底1212上的正投影沿第一方向的尺寸。其中，如图3所示，示例性的，第一方向与子像素111的列排布方向平行，第二方向与子像素111的行排布方向平行。
66.通过上述关系式可知，当衍射光为一级衍射时，衍射角为0
°
附近的范围内波动。微结构1211的设置优先保证反射率测试标准下高反射率，实际产品利用的是环境光，入射角
度在一定范围变化，一级衍射角度也随之变换，但会在0
°
衍射角为中心的一定范围波动，同时也有利于增大显示模组的视角。
67.可选地，本实施例中的第二预设夹角α为20
°
～45
°
，包括端点值20
°
和45
°
。
68.可选地，由于显示基板100上的光调制层120反射环境光实现发光显示，采用反射率衡量画质显示亮暗，按照行业内反射率测量标准，如图4所示，测试光d60准直光源按照与标准白板成30
°
夹角入射，探测器在0
°
接收反射光(垂直显示屏方向)，对标漫反射标准白板，制定反射率计算公式为：r＝r测试样品/r标准白板。
69.为了优先保证反射率测试标准下的高反射率，本实施例中将倾斜平面1211a的第二预设夹角α也同样设置为30
°
，这样经垂直射向光学单元121、并产生衍射后形成的光线的衍射角为0
°
，根据衍射公式可知，一级衍射角与入射波长相关，此时微结构1211的排布周期d＝λ。
70.在本技术实施例的具体实施过程中，通过comsol模拟一级衍射光衍射效率90％(理想光学表面模拟)。考虑加工工艺的限制，推估实际反射率可达到80％～90％。comsol波动模块是模拟电磁场分布，光是一种电磁波，模式设置为：入射端口设置30
°
入射的光线，左右边界线设置周期性边界条件，光学单元121的材料设置为银(ag)，采用comsol结果后处理提取一级衍射效率值为90％。
71.在一些具体的实施例中，针对显示基板100不同应用方向，对反射率最大方向及常用视角方向要求不同，穿戴手表产品一般要求dp侧反射率最高，采用一维排布。
72.如图5所示，微结构1211包括多个第一微结构1213，图中示意的第一微结构1213。第一微结构1213包括一个倾斜平面1211a，倾斜平面1211a由dp侧朝向do侧倾斜。
73.需要说明的是，当显示装置处于使用状态时，本技术各实施例中的dp侧表示为显示基板100靠近下边框的一侧，do侧表示为显示基板100靠近上边框的一侧。
74.具体地，多个第一微结构1213均沿着第二方向延伸，并且沿平行于第一方向周期性排布。其中，第一方向与子像素111的列排布方向平行，第二方向与子像素111的行排布方向平行，即第一方向与dp侧朝向do侧的方向同样平行。
75.可选地，如图5所示，当相邻的第一微结构1213之间沿着第一方向邻接设置，可以提升对入射的环境光线的衍射效果。
76.可选地，参阅图5，光学单元121沿平行于第一方向的尺寸h为35.5um，沿平行于第二方向的尺寸v为106.5um。
77.可选地，当相邻的第一微结构1213之间沿着第一方向邻接设置时，本实施例中的微结构1211的排布周期d与第一微结构1213在基底1212上的正投影沿第一方向的尺寸相等。本实施例中的d可以为0.5um～0.8um，例如：d可以是0.65um。
78.可选地，倾斜平面1211a与基底1212所在平面的夹角(第二预设夹角α)可以是20
°
～45
°
，例如：第二预设夹角α可以是30
°
。
79.在一些具体的实施例中，如图6和图7所示，微结构1211包括多个第二微结构1214，第二微结构1214可以看作是一个倒置的三棱柱，三棱柱沿着垂直于基底1212所在平面且平行于第一方向的横截面近似于直角三角形。
80.第二微结构1214包括一个倾斜平面1211a(相当于近似直角三角形的斜边所在平面)，倾斜平面1211a与基底1212之间的第二预设夹角α为20
°
～45
°
，例如：可以是30
°
。
81.具体地，多个第二微结构1214在第二基板210上呈阵列排布。此外，沿平行于第二方向相邻的第二微结构1214所对应的倾斜平面1211a的倾斜方向相反。其中，第一方向与子像素111的列排布方向平行，第二方向与子像素111的行排布方向平行。
82.可选地，当沿平行于第一方向相邻的第二微结构1214之间邻接设置时，第二微结构1214沿平行于第一方向的尺寸可以看作是第二微结构1214的排布周期，进一步提升对入射的环境光线的衍射效果。
83.具体地，本实施例中的排布周期设置为d可以是0.5um～0.8um，例如：可以是0.65um。第二微结构1214沿平行于第二方向的尺寸width＝d。光学单元121沿平行于第一方向的尺寸h为35.5um，沿平行于第二方向的尺寸v为106.5um。
84.可选地，沿平行于第二方向相邻的第二微结构1214之间间隔设置，沿平行于第二方向的间隔距离pitch_v＝2*d。
85.在一些具体的实施例中，如图8和图9所示，微结构1211包括多个第三微结构1215，第三微结构1215可以看作是一个倒置的三棱柱，三棱柱沿着垂直于基底1212所在平面且平行于第一方向的横截面可以看作是等腰三角形。
86.可选地，第三微结构1215包括两个倾斜平面1211a(相当于等腰三角形的两个斜边所在的平面)，两个倾斜平面1211a分别与基底1212所在的平面的夹角相等。
87.可选地，两个倾斜平面1211a分别与基底1212所在的平面的夹角在20
°
～45
°
，例如：可以是30
°
。
88.可选地，多个第三微结构1215在基底1212上呈阵列排布，沿着平行于第一方向且相邻的第三微结构1215邻接设置，即第三微结构1215沿平行于第一方向的尺寸可以看作是第三微结构1215的排布周期，进一步提升对入射的环境光线的衍射效果。
89.具体地，当沿平行于第一方向相邻的第三微结构1215之间邻接设置时，等腰三角形的底边边长d相当于微结构1211沿平行于第一方向的排布周期。外次，微结构1211沿平行于第一方向的排布周期也可以用图中8的pitch_h表示。
90.可选地，本实施例中的d可以是1.1um～1.5um，例如：d可以是1.3um。第三微结构1215沿平行于第二方向的尺寸width＝d。光学单元121沿平行于第一方向的尺寸h为35.5um，沿平行于第二方向的尺寸v为106.5um。
91.沿着平行于第二方向相邻的第三微结构1215间隔设置，沿平行于第二方向的间隔距离pitch_v＝2*d。其中，第一方向与子像素111的列排布方向平行，第二方向与子像素111的行排布方向平行。
92.在一些具体的实施例中，如图10至图13所示，微结构1211包括多个第四微结构1216，第四微结构1216为凸台结构，多个第四微结构1216在基底1212上呈阵列排布。
93.具体地，第四微结构1216包括四个倾斜平面1211a(相当于棱台体结构)，倾斜平面1211a相当于四棱台结构的侧表面。四个倾斜平面1211a与基底1212所在的平面的夹角均相等。
94.可选地，四个倾斜平面1211a分别与基底1212所在的平面的夹角在20
°
～45
°
，例如：可以是30
°
。
95.可选地，第四微结构1216的底面沿着平行于第二方向的尺寸与平行于第一方向的尺寸相等，即第四位结构的底面和顶面均可以看作是正方形。其中，第一方向与子像素111
的列排布方向平行，第二方向与子像素111的行排布方向平行。
96.可选地，第四微结构1216沿平行于第一方向的排布周期为图10中的pitch_h，第四微结构1216沿平行于第二方向的排布周期为图10中的pitch_v。第四微结构1216沿平行于第一方向的尺寸为l，第四微结构1216沿平行于第二方向的尺寸为width，width＝l。
97.可选地，第四微结构1216沿平行于第一方向的尺寸为l为1.1um～1.5um，例如：l可以为1.3um。第四微结构1216沿平行于第二方向的尺寸width＝1.3um。光学单元121沿平行于第一方向的尺寸h为35.5um，沿平行于第二方向的尺寸v为106.5um。相邻的第四微结构1216沿平行于第二方向的排布周期pitch_v＝1.25d，沿平行于第二方向的排布周期pitch_h＝1.25d。
98.可选地，在基底1212上沿平行于第一方向相邻的第四微结构1216之间邻接设置，此时，第四微结构1216沿平行于第一方向的排布周期与第四微结构1216在基底1212上的正投影沿平行于第一方向的尺寸相等。
99.可选地，在基底1212上沿平行于第二方向相邻的第四微结构1216之间邻接设置，此时，第四微结构1216沿平行于第为方向的排布周期与第四微结构1216在基底1212上的正投影沿平行于第二方向的尺寸相等。
100.可选地，光学单元121在第一基板110上的正投影与子像素111完全重合，在不影响像素发光的基础上，尽可能地增大光学单元121在第一基板110上的正投影区域的面积，有利于提升出光效率。
101.可选地，光学单元121对环境光起反射作用的同时，还可以作为像素电极，从而节约工艺时间和制作成本。
102.可选地，光学单元121的材料包括银或者铝等具有高反射率的金属材料。
103.基于同一发明构思，如图14所示，本技术实施例还提供了一种显示模组，该显示模组为反射式显示模组，包括：相对布置的对置基板200和显示基板100，对置基板200与显示基板100之间密封设置有液晶层300。其中，显示基板100的具体结构可参照前述实施例中的内容，本实施例中不再重复赘述。
104.具体地，对置基板200包括第二基板210和位于第二基板210靠近显示基板100一侧的多个色阻单元220，多个色阻单元220在第二基板210的一侧呈阵列排布。光学单元121在第二基板210上的正投影与色阻单元220在第二基板210上的正投影至少部分重叠，以保证经色阻单元220射入的环境光线尽可能地射向对应的光学单元121。以图15中的一个子像素111为例对衍射光路进行示例性说明，经色阻单元220射入的环境光线射向光学单元121上的微结构1211，从而形成一级衍射光线并沿着显示基板100的法线方向为中心的第一预设角度范围射出。
105.本实施例提供的显示模组，包括了前述实施例中的显示基板100，该显示基板100通过在第一基板110的一侧设置与子像素111相对应的光学单元121，该光学单元121包括周期性排布的微结构1211，利用周期性排布的微结构1211使得射向微结构1211的环境光线发生衍射，将镜面反射光能量转移到一级衍射方向，使得衍射后形成的出射光线沿着以第一基板110所在平面的法线方向为中心的第一预设夹角范围射出，从而提升了对光调制层120反射出去的环境光的利用率，增加了整个显示模组的对比度和可视角度。
106.可选地，继续参阅图14，本实施例提供的显示模组的多个色阻单元220包括至少两
种不同的颜色，例如：三种不同的颜色。本实施例中三种不同的颜色分别为红绿蓝(rgb)三原色，并且相邻的三个色阻单元220的颜色的组合形成一个rgb像素单元。
107.进一步地，根据微结构1211在基底1212上的周期排布关系式：2dsinα＝λ可知，假设第二预设夹角α确定为30
°
，相当于d＝λ，即微结构1211的排布周期与射入到微结构1211的环境光线的波长相关。因此，为了进一步提升显示模组的发光效率，针对不同颜色的色阻单元220，根据色阻单元220的颜色的波长来差异化设置对应的微结构1211的排布周期，因而不同色阻单元220对应的光学单元121的微结构1211沿平行于第一方向的排布周期不相同。
108.在一些实施例中，继续参阅图14，本实施例提供的显示模组除了相对布置的对置基板200和显示基板100之外，还包括偏光片230。
109.具体地，偏光片230位于第二基板210背离色阻单元220的一侧，用于对经光学单元121衍射后从对置基板200中射出的光线进行二次处理，以得到预设偏振方向的光线。
110.可选地，偏光片230包括层叠布置的四分之一波片、二分之一波片以及复合线偏光膜。需要说明的是，由于本实施例中的显示模组的正面射出光线增加，因此本实施例中的偏光片230不需要设置散射膜，结构更加简单，且降低了工艺成本。
111.为了便于理解上述实施例中的显示基板的结构，本实施例中对显示基板的制备方法作了简要说明。如图16所示，本技术实施例提供的显示基板的制备方法，包括以下步骤：
112.s100，提供一第一基板；第一基板包括阵列排布的多个子像素。
113.可选地，提供一基底，在基底上制备像素电路层，像素电路层包括多个阵列排布的子像素。像素电路层的制备工艺可参照现有的制备工艺实现，本实施例中不再详细赘述。
114.s200，在第一基板的一侧制备光调制层；光调制层包括阵列排布的多个光学单元，光学单元包括周期性排布的微结构，微结构用于使得射向微结构的环境光线发生衍射，衍射后形成的出射光线沿着以第一基板所在平面的法线方向为中心的第一预设夹角范围射出。
115.本实施例提供的显示基板的制备方法，通过在第一基板的一侧制备光调制层，由于光调制层包括阵列排布的多个光学单元，该光学单元包括周期性排布的微结构，利用周期性排布的微结构使得射向微结构的环境光线发生衍射，将镜面反射光能量转移到一级衍射方向，使得衍射后形成的出射光线沿着以第一基板所在平面的法线方向为中心的第一预设夹角范围射出，从而提升了经光调制层反射出去的环境光的利用率，增加了整个显示基板的对比度和可视角度。
116.可选地，如图17所示，上述实施例中的步骤s200具体包括：
117.s201，在第一基板的一侧涂覆光学膜层。
118.可选地，可以在第一基板的一侧涂覆反射率较高的材料，形成具有一定厚度的光学膜层。
119.s202，利用预先制备的压印模具对预设位置的光学膜层进行压印，以使得对应位置的光学膜层形成光学单元。
120.可选地，由于最终的显示基板需要与对置基板配合，因而在制备光学单元时，可以根据不同颜色的色阻单元对应的子像素的位置、对光学膜层采用纳米压印工艺制备得到光学单元。
121.本实施例中，压印模具可以根据需要制备的光学单元的结构和尺寸预先制作，按照第一基板中子像素的分布位置对光学膜层进行压印，假设存在三种不同颜色的色阻单元，则至少需要采用压印模板进行三次压印工艺，即压印模板可以将相同颜色的色阻单元对应位置的光学膜层同时进行压印，从而节约工艺时间和成本。
122.进一步地，纳米压印工艺具体包括以下步骤：
123.(1)通过电子束工艺在小尺寸的硅基或石英基板上预先制作压印模板。
124.(2)利用压印模板对压印胶进行压印。
125.(3)通过热固化或紫外固化后脱模。
126.(4)利用压印胶上制作复制膜，为大面积生产准备，且减少对昂贵模板的损耗。
127.(5)通过复制模对光学膜层多次压印拼接可实现大面积制作。
128.综上所述，本技术各实施例至少具有以下技术效果：
129.1、通过在第一基板的一侧设置与子像素相对应的光学单元，该光学单元包括周期性排布的微结构，利用周期性排布的微结构使得射向微结构的环境光线发生衍射，将镜面反射光能量转移到一级衍射方向，使得衍射后形成的出射光线沿着以第一基板所在平面的法线方向为中心的第一预设夹角范围射出，从而提升了经光调制层反射出去的环境光的利用率，增加了整个显示基板的对比度和可视角度。
130.2、为了进一步提升显示模组的发光效率，针对不同颜色的色阻单元，根据色阻单元的颜色的波长来差异化设置对应的微结构的排布周期，因而不同色阻单元对应的光学单元的微结构的排布周期不相同。
131.在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
132.术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
133.在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
134.在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
135.以上所述仅是本技术的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本技术原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。