本发明涉及一种可用来在使用抛光组合物的CMP过程中对基片进行平面化的抛光垫。所述抛光垫是透明的,可用于原位光学终点检测设备,而且在抛光垫中不需要独立的孔或窗口。
A·H·塞金
罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司
美国特拉华州