本发明涉及一种可用来在使用抛光组合物的CMP过程中对基片进行平面化的抛光垫。
所述抛光垫是透明的，可用于原位光学终点检测设备，而且在抛光垫中不需要独立的孔或窗口。

A·H·塞金

罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司

美国特拉华州

本发明涉及一种可用来在使用抛光组合物的CMP过程中对基片进行平面化的抛光垫。
所述抛光垫是透明的，可用于原位光学终点检测设备，而且在抛光垫中不需要独立的孔或窗口。