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专利摘要

本发明公开了一种离子束抛光单片集成Fabry‑Pérot腔全彩滤光片大批量制造方法。
该方法首先是准备一片衬底,开展衬底材料的单点驻留抛光试验,对衬底材料开展不同扫描速度条件下的分区域加工,制成微纳米台阶阵列结构模板;将模板上微纳米台阶阵列结构转移到光学固化胶上;依次在光学固化胶上沉积一定纳米厚度的顶层金属层和电介质层薄膜;采用离子束抛光对多余的电介质层薄膜进行平坦化加工;再沉积一定纳米厚度的底层金属层制成单片集成Fabry‑Pérot腔全彩滤光片;最后,对批量制造的全彩滤光片的光谱性能进行随机抽检测试。
本发明工艺简单、可操作性强,而且适用于单片集成Fabry‑Pérot腔全彩滤光片的大批量、大面积、高效率、高精度及低成本可控制造。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010131793.6
申请日
2020-02-29
公开日
2020-06-12
公开号
CN111266934A
主分类号
/B/B24/ 作业;运输
标准类别
磨削;抛光
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

李平 段辉高 王兆龙

申请人

湖南大学

申请人地址

410082 湖南省长沙市麓山南路1号

专利摘要

本发明公开了一种离子束抛光单片集成Fabry‑Pérot腔全彩滤光片大批量制造方法。
该方法首先是准备一片衬底,开展衬底材料的单点驻留抛光试验,对衬底材料开展不同扫描速度条件下的分区域加工,制成微纳米台阶阵列结构模板;将模板上微纳米台阶阵列结构转移到光学固化胶上;依次在光学固化胶上沉积一定纳米厚度的顶层金属层和电介质层薄膜;采用离子束抛光对多余的电介质层薄膜进行平坦化加工;再沉积一定纳米厚度的底层金属层制成单片集成Fabry‑Pérot腔全彩滤光片;最后,对批量制造的全彩滤光片的光谱性能进行随机抽检测试。
本发明工艺简单、可操作性强,而且适用于单片集成Fabry‑Pérot腔全彩滤光片的大批量、大面积、高效率、高精度及低成本可控制造。

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