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专利摘要

本发明公开了一种悬空纳米线机械手批量制备方法,包括:基于IPSLS生长模式制备得到生长于光刻定义的坡面台阶边缘的纳米线阵列,而后在生长有硅纳米线的衬底上旋涂一层氧树脂胶体,并进行光刻图案的操作,再用湿法刻蚀除去衬底表面的非晶硅介质层,使得粘住纳米线阵列的环氧树脂胶体薄膜悬浮于溶液表面,与乙醇充分置换后利用干燥技术,即可制备得到自组装的悬空纳米线机械手阵列。
本发明利用转移技术和临界点干燥技术将纳米线阵列转移至已光刻的可自支撑衬底,消除溶液表面张力的影响,保持纳米线机械手的原貌,最后得到可操作的悬空纳米线机械手阵列,可广泛应用于纳米机器人、生物医学的细胞检测和生物传感器等多种领域。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910193940.X
申请日
2019-03-14
公开日
2021-01-15
公开号
CN109850843B
主分类号
/B/B81/ 作业;运输
标准类别
微观结构技术
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

余林蔚 朱智旻 马海光 王军转

申请人

南京大学

申请人地址

210000 江苏省南京市栖霞区仙林大道162号

专利摘要

本发明公开了一种悬空纳米线机械手批量制备方法,包括:基于IPSLS生长模式制备得到生长于光刻定义的坡面台阶边缘的纳米线阵列,而后在生长有硅纳米线的衬底上旋涂一层氧树脂胶体,并进行光刻图案的操作,再用湿法刻蚀除去衬底表面的非晶硅介质层,使得粘住纳米线阵列的环氧树脂胶体薄膜悬浮于溶液表面,与乙醇充分置换后利用干燥技术,即可制备得到自组装的悬空纳米线机械手阵列。
本发明利用转移技术和临界点干燥技术将纳米线阵列转移至已光刻的可自支撑衬底,消除溶液表面张力的影响,保持纳米线机械手的原貌,最后得到可操作的悬空纳米线机械手阵列,可广泛应用于纳米机器人、生物医学的细胞检测和生物传感器等多种领域。

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