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专利摘要

提供能实现高平坦性的研磨用组合物、及硅晶圆的研磨方法。
研磨用组合物含有磨粒和碱性化合物,磨粒的异形度参数与粒径分布宽度的乘积为4以上。
磨粒的异形度参数是构成磨粒的各颗粒的投影面积Sr与各颗粒的虚拟投影面积Si之比Sr/Si减1而得的值的绝对值|Sr/Si‑1|的平均值,虚拟投影面积Si是以各颗粒的垂直费雷特直径为直径的虚拟圆的面积。
磨粒的粒径分布宽度是磨粒的体积基准的累积粒径分布中的90%粒径与10%粒径之差。
90%粒径与10%粒径的单位为nm。

专利状态

基础信息

专利号
CN201780069432.X
申请日
2017-11-06
公开日
2021-05-11
公开号
CN110099977B
主分类号
/C/C09/ 化学;冶金
标准类别
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

秋月丽子 土屋公亮 谷口惠

申请人

福吉米株式会社

申请人地址

日本爱知县

专利摘要

提供能实现高平坦性的研磨用组合物、及硅晶圆的研磨方法。
研磨用组合物含有磨粒和碱性化合物,磨粒的异形度参数与粒径分布宽度的乘积为4以上。
磨粒的异形度参数是构成磨粒的各颗粒的投影面积Sr与各颗粒的虚拟投影面积Si之比Sr/Si减1而得的值的绝对值|Sr/Si‑1|的平均值,虚拟投影面积Si是以各颗粒的垂直费雷特直径为直径的虚拟圆的面积。
磨粒的粒径分布宽度是磨粒的体积基准的累积粒径分布中的90%粒径与10%粒径之差。
90%粒径与10%粒径的单位为nm。

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