本发明公开了一种氧化铈的制备方法及其在STI抛光领域的应用,其中,所述的制备方法包括:首先对前驱体碳酸铈进行球磨分散,然后对所得碳酸铈前驱体进行水热晶化预处理,进一步高温焙烧所制备的晶态碳酸铈,得到氧化铈粉体。
将该氧化铈粉体经机械力分散于液相,以该分散的氧化铈为磨料制备CMP抛光液,其在STI抛光应用中显示出优良的平坦化抛光效率。
尹先升 贾长征
安集微电子科技(上海)有限公司
201201 上海市浦东新区华东路5001号金桥出口加工区(南区)T6-9幢底层
本发明公开了一种氧化铈的制备方法及其在STI抛光领域的应用,其中,所述的制备方法包括:首先对前驱体碳酸铈进行球磨分散,然后对所得碳酸铈前驱体进行水热晶化预处理,进一步高温焙烧所制备的晶态碳酸铈,得到氧化铈粉体。
将该氧化铈粉体经机械力分散于液相,以该分散的氧化铈为磨料制备CMP抛光液,其在STI抛光应用中显示出优良的平坦化抛光效率。