本发明涉及精密加工技术领域，尤其是涉及一种抛光液及其制备方法和碳化硅晶体的加工方法。
所述抛光液，包括按重量份数计的如下组分：聚晶金刚石微粉5‑30份、硅溶胶1000份、悬浮剂2‑40份、润湿剂4‑21份、消泡剂2‑14份和pH调节剂2‑10份。
所述制备方法包括：将聚晶金刚石微粉、悬浮剂、润湿剂、消泡剂和pH调节剂混合加入水中，再加入硅溶胶混合均匀。
所述抛光液可用于对碳化硅晶体的加工中。
本发明的抛光液配合抛光垫对碳化硅进行抛光，能够有效减少精抛时间和减少整体研磨抛光时间，并显著提高晶体表面质量。

苑亚斐 张亮亮

盘锦国瑞升科技有限公司

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本发明涉及精密加工技术领域，尤其是涉及一种抛光液及其制备方法和碳化硅晶体的加工方法。
所述抛光液，包括按重量份数计的如下组分：聚晶金刚石微粉5‑30份、硅溶胶1000份、悬浮剂2‑40份、润湿剂4‑21份、消泡剂2‑14份和pH调节剂2‑10份。
所述制备方法包括：将聚晶金刚石微粉、悬浮剂、润湿剂、消泡剂和pH调节剂混合加入水中，再加入硅溶胶混合均匀。
所述抛光液可用于对碳化硅晶体的加工中。
本发明的抛光液配合抛光垫对碳化硅进行抛光，能够有效减少精抛时间和减少整体研磨抛光时间，并显著提高晶体表面质量。