本发明公开了一种晶片研磨油及其制备方法，涉及半导体材料技术领域。
本发明的一种晶片研磨油，所述研磨油包括以下质量百分比的原料：8％～10％壬二酸酰胺钠、8％～10％月桂二酸钠、10％～20％单乙醇胺、15％～25％三乙醇胺、35％～59％水，具体的，该研磨油包括一下质量百分比的原料：8％壬二酸酰胺钠、8％月桂二酸钠、10％单乙醇胺、25％三乙醇胺、49％水，且本发明的研磨油的制备方法为：按照比例，称取各原料，先将壬二酸酰胺钠加入水中，持续搅拌至完全溶解后，加入月桂二酸钠，搅拌溶解，再加入单乙醇胺、三乙醇胺搅拌均匀后得到研磨油。
本发明公开了一种晶片研磨油及其制备方法，具有良好的防锈能力，能够有效防止研磨盘生锈，进而保证了磷化铟晶片研磨质量。

周一 毕洪伟 刘留 苏小平

威科赛乐微电子股份有限公司

404040 重庆市万州区万州经开区高峰园B02

本发明公开了一种晶片研磨油及其制备方法，涉及半导体材料技术领域。
本发明的一种晶片研磨油，所述研磨油包括以下质量百分比的原料：8％～10％壬二酸酰胺钠、8％～10％月桂二酸钠、10％～20％单乙醇胺、15％～25％三乙醇胺、35％～59％水，具体的，该研磨油包括一下质量百分比的原料：8％壬二酸酰胺钠、8％月桂二酸钠、10％单乙醇胺、25％三乙醇胺、49％水，且本发明的研磨油的制备方法为：按照比例，称取各原料，先将壬二酸酰胺钠加入水中，持续搅拌至完全溶解后，加入月桂二酸钠，搅拌溶解，再加入单乙醇胺、三乙醇胺搅拌均匀后得到研磨油。
本发明公开了一种晶片研磨油及其制备方法，具有良好的防锈能力，能够有效防止研磨盘生锈，进而保证了磷化铟晶片研磨质量。