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专利摘要

本发明还公开了一种Ti合金表面纳米化辅助制备的Si‑Co‑Y共渗层及其制备方法,本发明利用表面纳米化与扩散共渗工艺相结合的方式,通过高能喷丸在基体合金表面制备出纳米化组织,增加晶界数量和晶界缺陷,提高基体合金的表面活性,促进共渗过程中被渗原子在基体合金表面的吸附,并且喷丸引入的大量空位和位错能够促进被渗原子在基体合金中的扩散,进而促进Si、Co和Y的共渗,获得耐磨性能和高温抗氧化性能优良的Ti合金表面防护涂层体系,对于促进和拓展Ti合金的实际应用,具有重要意义和工程价值。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910864277.1
申请日
2019-09-12
公开日
2019-11-12
公开号
CN110438441A
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

张聪惠 田进 田伟

申请人

西安建筑科技大学 中联西北工程设计研究院有限公司

申请人地址

710055陕西省西安市碑林区雁塔路13号

专利摘要

本发明还公开了一种Ti合金表面纳米化辅助制备的Si‑Co‑Y共渗层及其制备方法,本发明利用表面纳米化与扩散共渗工艺相结合的方式,通过高能喷丸在基体合金表面制备出纳米化组织,增加晶界数量和晶界缺陷,提高基体合金的表面活性,促进共渗过程中被渗原子在基体合金表面的吸附,并且喷丸引入的大量空位和位错能够促进被渗原子在基体合金中的扩散,进而促进Si、Co和Y的共渗,获得耐磨性能和高温抗氧化性能优良的Ti合金表面防护涂层体系,对于促进和拓展Ti合金的实际应用,具有重要意义和工程价值。

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