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专利摘要

本发明提供了一种二氧化钛单晶同质外延薄膜的制备方法,包括以下步骤:A)在基底表面生长二氧化钛纳米线单晶阵列;B)将步骤A)得到的基底置于反应器中,在反应器中通入钛源后再通入水进行原子层沉积;C)重复步骤B)数次,得到二氧化钛单晶外延薄膜。
本申请利用原子层沉积技术在二氧化钛纳米线单晶阵列表面生长了高质量的同质外延薄膜。

专利状态

基础信息

专利号
CN202011096288.9
申请日
2020-10-14
公开日
2021-01-22
公开号
CN112251810A
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

吴长征 代保湖 谢毅

申请人

中国科学技术大学

申请人地址

230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号

专利摘要

本发明提供了一种二氧化钛单晶同质外延薄膜的制备方法,包括以下步骤:A)在基底表面生长二氧化钛纳米线单晶阵列;B)将步骤A)得到的基底置于反应器中,在反应器中通入钛源后再通入水进行原子层沉积;C)重复步骤B)数次,得到二氧化钛单晶外延薄膜。
本申请利用原子层沉积技术在二氧化钛纳米线单晶阵列表面生长了高质量的同质外延薄膜。

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