本发明涉及一种蚀刻液组合物、多层膜的蚀刻方法、和显示装置的制造方法，其中，本发明的蚀刻液组合物包含：(A)铜离子供给源；(B)分子内具有1个以上的羧基的有机酸离子供给源；(C)氟离子供给源；(D)作为第一添加剂的蚀刻调节剂、表面氧化力提高剂、或者这些的组合；以及(E)作为第二添加剂的表面活性剂。

全重翼 印致成 李美顺 申铉亿 裴俊佑

三永纯化株式会社 三菱瓦斯化学株式会社 三星显示有限公司

韩国忠清南道

本发明涉及一种蚀刻液组合物、多层膜的蚀刻方法、和显示装置的制造方法，其中，本发明的蚀刻液组合物包含：(A)铜离子供给源；(B)分子内具有1个以上的羧基的有机酸离子供给源；(C)氟离子供给源；(D)作为第一添加剂的蚀刻调节剂、表面氧化力提高剂、或者这些的组合；以及(E)作为第二添加剂的表面活性剂。