1.本实用新型涉及低辐射磁控溅射镀膜玻璃领域，具体来说是提供一种超高硬度可钢双银低辐射镀膜玻璃。
背景技术：
2.双银低辐射镀膜玻璃属于low-e玻璃的一种，因其具有低反射、高隔热、成本相对较高等特点，而多应用于发达城市中的高端建筑幕墙。现有市场中双银镀膜产品，为达到设计者的性能及外观需求，膜层中通常包含多层且膜厚较厚的氧化物（氧化钛、氧化锡、氧化锌锡），这样一来，即使最外层设计几十纳米厚度的氮化硅层也难以保证整个镀膜玻璃的硬度，从而该类玻璃在后续运输、清洗、磨边时出现了大量的划伤情况，一旦玻璃表面被划伤，将极易被氧化而提前失效，甚至出现外观变色，故生产商只能将被划伤的玻璃作废品处理，这一问题给供货商造成了巨大的损失，同时工程质量也存在一定的隐患。
技术实现要素：
3.本实用新型的目的是为了解决上述现有双银镀膜存在的不足之处，提供一种超高硬度可钢双银低辐射镀膜玻璃。
4.为了实现上述目的,本实用新型采用的技术方案如下：
5.一种超高硬度可钢双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底，其特征在于：位于玻璃基底之上有13个膜层；玻璃基底顶面从下到上依次为：打底层、第一介质层、第一种子层、第一银层、第一保护层、第二介质层、第三介质层、第二种子层、第二银层、第二保护层、第四介质层、第五介质层、最外层保护层；
6.其中所述打底层、第五介质层为氮化硅层；第一介质层为氧化钛层；第一种子层为氧化锌层；第一保护层、第二保护层为钛层；第二介质层、最外层保护层为氮化硅锆层；第三介质层为氧化钛层；第二种子层、第四介质层为氧化锌层。
7.进一步，所述打底层厚度为10-20nm。
8.进一步，所述第一介质层厚度为5-10nm，第二介质层厚度为70-90nm，第三介质层厚度为5-10nm，第四介质层厚度为10-15nm，第五介质层厚度为10-20nm。
9.进一步，所述第一种子层、第二种子层厚度为10-15nm。
10.进一步，所述第一银层厚度为4-8nm，第二银层厚度为16-20nm。
11.进一步，所述第一保护层、第二保护层厚度均为3-5nm。
12.进一步，所述最外层保护层厚度为20-30nm。
13.本实用新型中玻璃表面各单层膜主要通过磁控溅射法沉积获得，将沉积各单层膜所需靶材依次布置于设备内部，为防止不同工艺气体相互串气，靶材之间安装一定数量的气体隔离装置，玻璃基底放置于设备传输辊道依次通过各靶材，制备过程中利用调整工艺气体浓度、溅射电源功率与玻璃传输速度实现控制各膜层的晶体结构与膜厚，从而制备出理想的镀膜玻璃。
14.本实用新型的有益效果：相较于常规双银镀膜玻璃，本实用新型制得的超高硬度可钢双银低辐射镀膜玻璃硬度高，可大幅降低产品在后续加工过程中因划伤造成的损失；该玻璃满足钢化要求，钢化前后结合力优良，且钢化后颜色变化较小，各项光学参数均达到双银镀膜玻璃产品性能要求；且该产品在保证了超高硬度的特点上，同时外观颜色可调，可满足不同用户需求。
附图说明
15.图1 为本实用新型所述一种超高硬度可钢双银低辐射镀膜玻璃结构图。
具体实施方式
16.结合图1，对本实用新型作进一步地说明：
17.一种超高硬度可钢双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底，在玻璃基底上从上到下依次有氮化硅层/氧化钛/氧化锌/银层/钛层/氮化硅锆层/氧化钛/氧化锌/银层/钛层/氧化锌/氮化硅层/氮化硅锆层。
18.一种超高硬度可钢双银低辐射镀膜玻璃的制备方法，具体实施步骤如下：
19.实施例1
20.如上所述一种超高硬度可钢双银低辐射镀膜玻璃，各层膜主要通过磁控溅射法溅射获得，溅射平面靶材选用直流电源，溅射旋转靶选用交流电源。镀膜本底真空度低于5.0
×
10-6
mbar，溅射靶材纯度高于99.9%，工艺气体纯度高于99.999%；
21.打底层是氮化硅层，厚度为10-20nm，由硅铝旋转靶溅射后反应所得，所用工艺气体为氩气与氮气，沉积气压为0.004mbar（ar：n2=1:1.5）；
22.第一介质层是氧化钛层，厚度为5-10nm，由氧化钛旋转靶直接溅射所得，所用工艺气体为纯氩气，沉积气压为0.003mbar；
23.第一种子层为氧化锌层，厚度为10-15nm，由锌铝旋转靶溅射后反应所得，所用工艺气体为氩气与氧气，沉积气压为0.005mbar（ar：o2=1:1.8）；
24.第一银层厚度为4-8nm，由纯银平面靶直接溅射所得，所用工艺气体为纯氩气，沉积气压为0.002mbar；
25.第一保护层为钛层，厚度为3-5nm，由钛平面靶直接溅射所得，所用工艺气体为纯氩气，沉积气压为0.002mbar；
26.第二介质层氮化硅锆层，厚度为70-90nm，由硅锆靶旋转溅射后反应所得，所用工艺气体为氩气与氮气，沉积气压为0.004mbar（ar：n2=1:1.5）；
27.第三介质层氧化钛层，厚度为5-10nm，由氧化钛旋转靶直接溅射所得，所用工艺气体为纯氩气，沉积气压为0.003mbar；
28.第二种子层为氧化锌层，厚度为10-15nm，由锌铝旋转靶溅射后反应所得，所用工艺气体为氩气与氧气，沉积气压为0.005mbar（ar：o2=1:1.8）；
29.第二银层厚度为16-20nm nm，由纯银平面靶直接溅射所得，所用工艺气体为纯氩气，沉积气压为0.002mbar；
30.第二保护层为钛层，厚度为3-5nm nm，由钛平面靶直接溅射所得，所用工艺气体为纯氩气，沉积气压为0.002mbar；
31.第四介质层为氧化锌层，厚度为10-15nm，由锌铝旋转靶溅射后反应所得，所用工艺气体为氩气与氧气，沉积气压为0.005mbar（ar：o2=1:1.8）；
32.第五介质层氮化硅层，厚度为10-20nm，由硅铝靶旋转溅射后反应所得，所用工艺气体为氩气与氮气，沉积气压为0.004mbar（ar：n2=1:1.5）；
33.最外层保护层氮化硅锆层，厚度为20-30nm，由硅锆靶旋转溅射后反应所得，所用工艺气体为氩气与氮气，沉积气压为0.004mbar（ar：n2=1:1.5）。
34.下面以三组较优实施例来说明，该玻璃详细工艺参数与光学参数如下各表1-6所示。
[0035][0036]
[0037][0038]
[0039][0040]
技术特征：
1.一种超高硬度可钢双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底，其特征在于：位于玻璃基底之上有13个膜层；玻璃基底顶面从下到上依次为：打底层、第一介质层、第一种子层、第一银层、第一保护层、第二介质层、第三介质层、第二种子层、第二银层、第二保护层、第四介质层、第五介质层、最外层保护层；其中所述打底层、第五介质层为氮化硅层；第一介质层为氧化钛层；第一种子层为氧化锌层；第一保护层、第二保护层为钛层；第二介质层、最外层保护层为氮化硅锆层；第三介质层为氧化钛层；第二种子层、第四介质层为氧化锌层。2.根据权利要求1所述一种超高硬度可钢双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述打底层厚度为10-20nm。3.根据权利要求1所述一种超高硬度可钢双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层厚度为5-10nm，第二介质层厚度为70-90nm，第三介质层厚度为5-10nm，第四介质层厚度为10-15nm，第五介质层厚度为10-20nm。4.根据权利要求1所述一种超高硬度可钢双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一种子层、第二种子层厚度均为10-15nm。5.根据权利要求1所述一种超高硬度可钢双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一银层厚度为4-8nm，第二银层厚度为16-20nm。6.根据权利要求1所述一种超高硬度可钢双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一保护层、第二保护层厚度均为3-5nm。7.根据权利要求1-6任一项所述一种超高硬度可钢双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述最外层保护层厚度为20-30nm。
技术总结
本实用新型涉及一种超高硬度可钢双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底，其特征在于：玻璃基底顶面从下到上依次为：打底层、第一介质层、第一种子层、第一银层、第一保护层、第二介质层、第三介质层、第二种子层、第二银层、第二保护层、第四介质层、第五介质层、最外层保护层；其中所述打底层、第五介质层为氮化硅层；第一介质层为氧化钛层；第一种子层为氧化锌层；第一保护层、第二保护层为钛层；第二介质层、最外层保护层为氮化硅锆层；第三介质层为氧化钛层；第二种子层、第四介质层为氧化锌层。本实用新型的有益效果：硬度高，可大幅降低后续加工伤造成的损失；该玻璃满足钢化要求，钢化后颜色变化较小；外观颜色可调，可满足不同用户需求。求。求。
技术研发人员：张山山 李险峰 张金鹏 王家亮 沈晓晨
受保护的技术使用者：中建材光电装备（太仓）有限公司
技术研发日：2021.09.29
技术公布日：2022/2/19