1.本实用新型涉及一种清洗装置技术领域，具体为一种铜箔清洗装置。
背景技术：
2.铜箔由铜加一定比例的其它金属打制而成，铜箔一般有90箔和88箔两种，即为含铜量为90％和88％，广泛应用在工业用计算机、通讯设备、民用电视机、录像机、汽车用电子部件等设备上，铜箔具有低表面氧气特性，可以附着于各种不同基材，拥有较宽的温度使用范围，具有优良的导通性，并提供电磁屏蔽效果。
3.目前在对铜箔进行加工生产过程中，会有部分加工污垢残留在铜箔表面，若不清洗干净将影响铜箔的使用。因此我们对此做出改进，提出一种铜箔清洗装置。
技术实现要素：
4.为了解决上述技术问题，本实用新型提供了如下的技术方案：
5.本实用新型一种铜箔清洗装置，包括清洗箱，所述清洗箱的正面一侧设有第一固定底座，所述清洗箱的背面设有第二固定底座，所述第一固定底座的顶部设有一对第一安装座，一对所述第一安装座之间设有进料辊，所述第二固定底座的顶部设有一对第二安装座，一对所述第二安装座之间设有出料辊，所述第二安装座的一侧安装有电机，所述电机的输出端与出料辊传动连接，所述清洗箱的正面一侧开设有进料口，所述清洗箱的背面开设有出料口，所述清洗箱的内部底端一侧设有储水箱，所述储水箱的内部设有第一导向辊，所述清洗箱的内部顶端设有第二导向辊，所述清洗箱的内部在远离第一导向辊的一侧设有第三导向辊。
6.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述第一固定底座与第二固定底座的一侧均设有固定架，所述固定架的顶部均设有连接杆，所述连接杆的两端均套设有支撑杆，所述支撑杆之间设有压料辊，所述支撑杆的一侧均设有第一弹簧，所述第一弹簧的一端与固定架连接。
7.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述第一固定底座与第二固定底座的顶部均开设有滑槽，所述滑槽的内部均设有丝杠，所述丝杠上均套设有滑块，且所述滑块的顶部分别与其中一个第一固定底座和其中一个第二固定底座连接，所述丝杠的一端通过轴承与滑槽连接，所述丝杠的另一端延伸至滑槽的外侧，并连接有把手，且所述滑块在与丝杠的接触部分设置有若干滚珠，并能通过滚珠与丝杠构成滚珠丝杠运动副。
8.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述清洗箱的内部设有一对固定板，一对所述固定板的一侧均开设有安装槽，所述安装槽的内部均设有第二弹簧，所述第二弹簧在靠近安装槽的开口处均连接有夹板。
9.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述第二导向辊的一侧设有第一分流管道，所述第三导向辊的底部设有第二分流管道，所述清洗箱的一侧设有风扇，所述风扇的内侧连接有风干管道，且所述第一分流管道和第二分流管道均通过连接管与风干管道连通。
10.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述清洗箱的一侧设有控制开关，所述清洗箱的一侧连接有出水管。
11.作为本实用新型的一种优选技术方案，所述清洗箱的顶部开口一侧通过合页铰接有箱盖，所述箱盖的顶部开设有若干出气口。
12.本实用新型的有益效果是：
13.1、该种铜箔清洗装置，通过设置有进料辊，实现了对铜箔进行固定，通过电机带动出料辊转动，实现了对清洗后的铜箔进行自动收卷，通过第一导向辊、第二导向辊和第三导向辊配合使用，实现了对铜箔进行传送，实现了该装置的自动化清洗，提高了铜箔的清洗效率，铜箔通过经过储水箱，实现了对铜箔表面的污垢进行清洗，通过固定板、第二弹簧和夹板配合使用，实现了将清洗后的铜箔表面水分压出，方便进行风干处理；
14.2、该种铜箔清洗装置，通过设置有风干管道，实现了将风扇产生的风输送到第一分流管道和第二分流管道内，从而实现了对清洗后的铜箔表面水分进行吹干，通过固定架、连接杆、支撑杆、压料辊和第一弹簧的配合使用，实现了对进料辊和出料辊上的铜箔进行压紧，防止铜箔在清洗过程中，造成铜箔的松散，从而导致铜箔的损坏，本实用新型，结构简单合理，设计新颖，操作简单便捷，能有效提高铜箔清洗的效率，具有较高的实用价值。
附图说明
15.附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：
16.图1是本实用新型一种铜箔清洗装置的正立体图；
17.图2是本实用新型一种铜箔清洗装置的侧体图；
18.图3是本实用新型一种铜箔清洗装置的剖视图；
19.图4是本实用新型一种铜箔清洗装置的图1中a的结构放大示意图；
20.图5是本实用新型一种铜箔清洗装置的图3中b的结构放大示意图。
21.图中：1、清洗箱；2、第一固定底座；3、第二固定底座；4、第一安装座；5、进料辊；6、第二安装座；7、出料辊；8、进料口；9、出料口；10、电机；11、固定架；12、连接杆；13、支撑杆；14、压料辊；15、第一弹簧；16、滑块；17、丝杠；18、把手；19、储水箱；20、第一导向辊；21、第二导向辊；22、第三导向辊；23、箱盖；24、风扇；25、风干管道；26、第一分流管道；27、第二分流管道；28、出气口；29、固定板；30、第二弹簧；31、夹板；32、出水管；33、控制开关。
具体实施方式
22.以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
23.实施例：如图1-5所示，本实用新型一种铜箔清洗装置，包括清洗箱1，所述清洗箱1的正面一侧设有第一固定底座2，所述清洗箱1的背面设有第二固定底座3，所述第一固定底座2的顶部设有一对第一安装座4，一对所述第一安装座4之间设有进料辊5，所述第二固定底座3的顶部设有一对第二安装座6，一对所述第二安装座6之间设有出料辊7，所述第二安装座6的一侧安装有电机10，所述电机10的输出端与出料辊7传动连接，所述清洗箱1的正面一侧开设有进料口8，所述清洗箱1的背面开设有出料口9，所述清洗箱1的内部底端一侧设
有储水箱19，所述储水箱19的内部设有第一导向辊20，所述清洗箱1的内部顶端设有第二导向辊21，所述清洗箱1的内部在远离第一导向辊20的一侧设有第三导向辊22。
24.其中，所述第一固定底座2与第二固定底座3的一侧均设有固定架11，所述固定架11的顶部均设有连接杆12，所述连接杆12的两端均套设有支撑杆13，所述支撑杆13之间设有压料辊14，所述支撑杆13的一侧均设有第一弹簧15，所述第一弹簧15的一端与固定架11连接。
25.其中，所述第一固定底座2与第二固定底座3的顶部均开设有滑槽，所述滑槽的内部均设有丝杠17，所述丝杠17上均套设有滑块16，且所述滑块16的顶部分别与其中一个第一固定底座2和其中一个第二固定底座3连接，所述丝杠17的一端通过轴承与滑槽连接，所述丝杠17的另一端延伸至滑槽的外侧，并连接有把手18，且所述滑块16在与丝杠17的接触部分设置有若干滚珠，并能通过滚珠与丝杠17构成滚珠丝杠运动副。
26.其中，所述清洗箱1的内部设有一对固定板29，一对所述固定板29的一侧均开设有安装槽，所述安装槽的内部均设有第二弹簧30，所述第二弹簧30在靠近安装槽的开口处均连接有夹板31，通过固定板29、第二弹簧30和夹板31配合使用，实现了将清洗后的铜箔表面水分压出，方便进行风干处理。
27.其中，所述第二导向辊21的一侧设有第一分流管道26，所述第三导向辊22的底部设有第二分流管道27，所述清洗箱1的一侧设有风扇24，所述风扇24的内侧连接有风干管道25，且所述第一分流管道26和第二分流管道27均通过连接管与风干管道25连通。
28.其中，所述清洗箱1的一侧设有控制开关33，所述清洗箱1的一侧连接有出水管32，通过设置有控制开关33，实现了该装置的智能化，方便了工作人员的操作。
29.其中，所述清洗箱1的顶部开口一侧通过合页铰接有箱盖23，所述箱盖23的顶部开设有若干出气口28，通过设置有箱盖23，方便了工作人员对清洗箱1内部进行维护。
30.工作原理：在使用时，先检查设备的完整性，再接通电源，通过设置有进料辊5，实现了对铜箔进行固定，通过电机10带动出料辊7转动，实现了对清洗后的铜箔进行自动收卷，通过第一导向辊20、第二导向辊21和第三导向辊22配合使用，实现了对铜箔进行传送，实现了该装置的自动化清洗，提高了铜箔的清洗效率，铜箔通过经过储水箱19，实现了对铜箔表面的污垢进行清洗，通过固定板29、第二弹簧30和夹板31配合使用，实现了将清洗后的铜箔表面水分压出，方便进行风干处理，通过设置有风干管道25，实现了将风扇24产生的风输送到第一分流管道26和第二分流管道27内，从而实现了对清洗后的铜箔表面水分进行吹干，通过固定架11、连接杆12、支撑杆13、压料辊14和第一弹簧15的配合使用，实现了对进料辊5和出料辊7上的铜箔进行压紧，防止铜箔在清洗过程中，造成铜箔的松散，从而导致铜箔的损坏，本实用新型，结构简单合理，设计新颖，操作简单便捷，能有效提高铜箔清洗的效率，具有较高的实用价值。
31.最后应说明的是：在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“竖直”、“上”、“下”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
32.在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，
或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
33.以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。