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专利摘要

本发明提供了一种在钙钛矿薄膜表面制备同心环结构的方法,本发明在光刻胶上旋涂钙钛矿薄膜,将载有光刻胶和钙钛矿薄膜的基底上浸泡在有机溶剂中,洗去下层的光刻胶,取出后即可在钙钛矿薄膜上形成同心环结构。
本发明利用光刻胶作为牺牲层制备钙钛矿薄膜同心环结构的方法,避免了传统光刻技术等损害材料功能的不利环境,有效地保护材料的功能性。
全溶液旋涂,制备工艺简单,实现了一种大面积、低成本的钙钛矿薄膜同心环的制备工艺。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910676689.2
申请日
2019-07-25
公开日
2021-01-29
公开号
CN112279214A
主分类号
/B/B81/ 作业;运输
标准类别
微观结构技术
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
发明公开

发明人

廖清 刘鹏 张秉乾 付红兵 徐珍珍

申请人

首都师范大学

申请人地址

100048 北京市海淀区西三环北路105号

专利摘要

本发明提供了一种在钙钛矿薄膜表面制备同心环结构的方法,本发明在光刻胶上旋涂钙钛矿薄膜,将载有光刻胶和钙钛矿薄膜的基底上浸泡在有机溶剂中,洗去下层的光刻胶,取出后即可在钙钛矿薄膜上形成同心环结构。
本发明利用光刻胶作为牺牲层制备钙钛矿薄膜同心环结构的方法,避免了传统光刻技术等损害材料功能的不利环境,有效地保护材料的功能性。
全溶液旋涂,制备工艺简单,实现了一种大面积、低成本的钙钛矿薄膜同心环的制备工艺。

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