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专利摘要

本发明提供了一种惯性传感器及其形成方法。
通过在第二导电材料层中形成凹槽,以使所形成的可动梳齿结构能够间隔于第二导电材料层,并在凹槽的底部还设置有薄膜层,该薄膜层不仅可用于实现刻蚀阻挡,并且在执行刻蚀工艺以形成可动梳齿结构时还可用于固定可动梳齿结构的各个梳齿,避免由于梳齿发生扭转而导致梳齿的侧壁受到损伤。
此外,本发明提供的形成方法中,可以使薄膜层的厚度较小,相应的可以在较小的刻蚀量下即能够实现薄膜层的去除,此时并不会对其他膜层造成大量侵蚀,有利于保障器件中的各个组件的稳定性。

专利状态

基础信息

专利号
CN202011413591.7
申请日
2020-12-07
公开日
2021-05-07
公开号
CN112194097B
主分类号
/B/B81/ 作业;运输
标准类别
微观结构技术
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

张兆林 许继辉

申请人

中芯集成电路制造(绍兴)有限公司

申请人地址

312000 浙江省绍兴市皋埠镇临江路518号

专利摘要

本发明提供了一种惯性传感器及其形成方法。
通过在第二导电材料层中形成凹槽,以使所形成的可动梳齿结构能够间隔于第二导电材料层,并在凹槽的底部还设置有薄膜层,该薄膜层不仅可用于实现刻蚀阻挡,并且在执行刻蚀工艺以形成可动梳齿结构时还可用于固定可动梳齿结构的各个梳齿,避免由于梳齿发生扭转而导致梳齿的侧壁受到损伤。
此外,本发明提供的形成方法中,可以使薄膜层的厚度较小,相应的可以在较小的刻蚀量下即能够实现薄膜层的去除,此时并不会对其他膜层造成大量侵蚀,有利于保障器件中的各个组件的稳定性。

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