本发明公开了一种用于铅化学机械抛光的粗抛抛光液及抗氧化工艺，粗抛抛光液包括：研磨颗粒，氧化剂，金属络合剂和去离子水；采用pH调节剂调节粗抛抛光液的pH；本发明的铅化学机械抛光粗抛抛光液及其对应的抛光工艺能够直接将宏观加工后的铅块进行抛光加工；同时，本发明的粗抛抛光液能够有效地实现极高的纯铅材料去除速率，进而使其表面简便快速的达到镜面效果；此外，本发明加工后的铅块表面还为后期进行超精密加工铅块表面提供了可靠的前期准备工作。
本发明的铅表面抗氧化处理工艺，其工艺操作简单、经济环保，能够快速解决纯铅抛光后表面氧化膜在数秒内生成的难题，从而有利于表面质量的检测，又有利于工业中的使用需求。

余家欣 蔡荣 王超 孙名宏

西南科技大学 中国工程物理研究院机械制造工艺研究所

621010 四川省绵阳市涪城区青龙大道中段59号

本发明公开了一种用于铅化学机械抛光的粗抛抛光液及抗氧化工艺，粗抛抛光液包括：研磨颗粒，氧化剂，金属络合剂和去离子水；采用pH调节剂调节粗抛抛光液的pH；本发明的铅化学机械抛光粗抛抛光液及其对应的抛光工艺能够直接将宏观加工后的铅块进行抛光加工；同时，本发明的粗抛抛光液能够有效地实现极高的纯铅材料去除速率，进而使其表面简便快速的达到镜面效果；此外，本发明加工后的铅块表面还为后期进行超精密加工铅块表面提供了可靠的前期准备工作。
本发明的铅表面抗氧化处理工艺，其工艺操作简单、经济环保，能够快速解决纯铅抛光后表面氧化膜在数秒内生成的难题，从而有利于表面质量的检测，又有利于工业中的使用需求。