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专利摘要

本发明提供了一种碳化硅抛光液及其应用,属于碳化硅抛光液领域。
本发明提供了一种碳化硅抛光液,使用非水溶剂,利用非水溶剂代替水,避免了抛光液中各组分的反应活化能、配位性能和氧化还原电位等特性都受制于水性溶液的束缚的问题,本发明提供的碳化硅抛光液具有良好的金刚石悬浮性,能够提高抛光效率,且无挥发性问题,易于长期储存,是理想的半导体化合物晶圆制造亚纳米级光洁度的抛光液。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010541121.2
申请日
2020-06-15
公开日
2020-08-11
公开号
CN111518478A
主分类号
/C/C09/ 化学;冶金
标准类别
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

胡静泉 刘和欣

申请人

宁波日晟新材料有限公司

申请人地址

315410 浙江省宁波市余姚市丈亭镇龙丰村

专利摘要

本发明提供了一种碳化硅抛光液及其应用,属于碳化硅抛光液领域。
本发明提供了一种碳化硅抛光液,使用非水溶剂,利用非水溶剂代替水,避免了抛光液中各组分的反应活化能、配位性能和氧化还原电位等特性都受制于水性溶液的束缚的问题,本发明提供的碳化硅抛光液具有良好的金刚石悬浮性,能够提高抛光效率,且无挥发性问题,易于长期储存,是理想的半导体化合物晶圆制造亚纳米级光洁度的抛光液。

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