本发明提出了一种pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液,所述抛光液包括:氧化剂、高硬度磨料和pH稳定剂,所述pH稳定剂为硝酸铝。
本发明的抛光液在进行化学机械抛光过程能很好的保持pH值的稳定性,并且抛光液的分散稳定性好且分散均匀。
本发明由于在抛光液中加入了pH值稳定剂硝酸铝,使得该抛光液在进行化学机械抛光过程中的pH值稳定性更强,并且抛光液不容易发生硬团聚。
本发明的抛光液对环境无污染,可以采用循环供料的方式使用。
窦文涛 宗艳民 梁庆瑞 王含冠 其他发明人请求不公开姓名
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本发明提出了一种pH稳定性提高的碳化硅化学机械抛光液,所述抛光液包括:氧化剂、高硬度磨料和pH稳定剂,所述pH稳定剂为硝酸铝。
本发明的抛光液在进行化学机械抛光过程能很好的保持pH值的稳定性,并且抛光液的分散稳定性好且分散均匀。
本发明由于在抛光液中加入了pH值稳定剂硝酸铝,使得该抛光液在进行化学机械抛光过程中的pH值稳定性更强,并且抛光液不容易发生硬团聚。
本发明的抛光液对环境无污染,可以采用循环供料的方式使用。