本发明涉及半导体化学机械抛光技术领域，具体公开一种颗粒形态可控的硅溶胶及其制备方法。
所述制备方法，包括如下步骤：配制若干组烷氧基硅烷质量含量≥95％的酸性组合液和含有碱催化剂、高纯水及有机溶剂的母液；将一组所述酸性组合液加入到所述母液中，得第一硅溶胶；至少一次地向所得第一硅溶胶中依次加入高纯水、一组所述酸性组合液，得硅溶胶一次液；浓缩和溶剂置换，得到硅溶胶产品。
本发明提供的制备方法通过调控烷氧基硅烷的酸性组合液的酸值，并调节加入的各组酸性组合液的酸值的变化，实现了硅溶胶颗粒形态的可控，得到了球形和非球形的硅溶胶，所得硅溶胶的一次固含>10％，金属离子含量<1ppm。

朱斌 仵靖

石家庄优士科电子科技有限公司

050000 河北省石家庄市高新区湘江道319号孵化器C座01-1908号

本发明涉及半导体化学机械抛光技术领域，具体公开一种颗粒形态可控的硅溶胶及其制备方法。
所述制备方法，包括如下步骤：配制若干组烷氧基硅烷质量含量≥95％的酸性组合液和含有碱催化剂、高纯水及有机溶剂的母液；将一组所述酸性组合液加入到所述母液中，得第一硅溶胶；至少一次地向所得第一硅溶胶中依次加入高纯水、一组所述酸性组合液，得硅溶胶一次液；浓缩和溶剂置换，得到硅溶胶产品。
本发明提供的制备方法通过调控烷氧基硅烷的酸性组合液的酸值，并调节加入的各组酸性组合液的酸值的变化，实现了硅溶胶颗粒形态的可控，得到了球形和非球形的硅溶胶，所得硅溶胶的一次固含>10％，金属离子含量<1ppm。